ΠŸΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°. Π˜Ρ‚Π°ΠΊ, ΠΊΠ°ΠΊ ΠΆΠ΅ ΠΈΠ·Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²ΠΈΡ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ Π² Π΄ΠΎΠΌΠ°ΡˆΠ½ΠΈΡ… условиях? Π“Π΄Π΅ производится Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½

ΠžΡ‚ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠ΅ однослойного Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π»Π΅ΠΊΠ»ΠΎ Π²Π½ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠ΅ ΠΊ этому ΠΎΠ±ΡŠΠ΅ΠΊΡ‚Ρƒ дСсятков Π»Π°Π±ΠΎΡ€Π°Ρ‚ΠΎΡ€ΠΈΠΉ Π²ΠΎ всСм ΠΌΠΈΡ€Π΅. Π­Ρ‚ΠΎ связано ΠΊΠ°ΠΊ с Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½Ρ‹ΠΌΠΈ Ρ„ΠΈΠ·ΠΈΠΊΠΎ-химичСскими свойствами Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΈ Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌ ΠΏΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»ΠΎΠΌ ΠΏΡ€Π΅Π΄ΠΏΠΎΠ»Π°Π³Π°Π΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈΠΊΠ»Π°Π΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ использования. РСализация этого ΠΏΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»Π° Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½Π° Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ Π² Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ Ρ€Π°Π·Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠΈ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ простых ΠΈ достаточно эффСктивных ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ² получСния ΠΈ ΠΈΠ΄Π΅Π½Ρ‚ΠΈΡ„ΠΈΠΊΠ°Ρ†ΠΈΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ². По этой ΠΏΡ€ΠΈΡ‡ΠΈΠ½Π΅ Π½Π° Π΄Π°Π½Π½ΠΎΠΉ стадии развития исслСдований Π² области Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ² усилия спСциалистов Π½Π°ΠΏΡ€Π°Π²Π»Π΅Π½Ρ‹ Π½Π° Ρ€Π°Π·Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΡƒ Ρ‚Π°ΠΊΠΈΡ… ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ². ΠžΡΠ½ΠΎΠ²Π½Ρ‹Π΅ трудности приготовлСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° связаны с Π½Π΅Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ получСния высококачСствСнных ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†ΠΎΠ² Π² ΠΎΡ‰ΡƒΡ‚ΠΈΠΌΡ‹Ρ… количСствах, Ρ€Π΅Π³ΡƒΠ»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ΠΌ числа слоСв ΠΈ качСства кристалличСской Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Ρ‚ΠΊΠΈ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†Π°. ΠœΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ НовосСлова Π½Π΅ Π΄Π°Π΅Ρ‚ Π½ΠΈ высокого качСства, Π½ΠΈ высокого Π²Ρ‹Ρ…ΠΎΠ΄Π° ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚Π°; Π½ΡƒΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΡ€Π΅ΠΎΠ΄ΠΎΠ»Π΅Ρ‚ΡŒ ΡΠ½Π΅Ρ€Π³ΠΈΡŽ Π²Π°Π½-Π΄Π΅Ρ€-Π²Π°Π°Π»ΡŒΡΠΎΠ²Ρ‹Ρ… взаимодСйствий ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ слоями Π±Π΅Π· Π½Π°Ρ€ΡƒΡˆΠ΅Π½ΠΈΡ структуры ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠ³ΠΎ, Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎ ΠΈ ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΡ… слоСв, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π·Π°Ρ‚Ρ€ΡƒΠ΄Π½ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ. ΠΠ»ΡŒΡ‚Π΅Ρ€Π½Π°Ρ‚ΠΈΠ²Ρ‹: химичСскоС ΠΎΡ‚ΡˆΠ΅Π»ΡƒΡˆΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ слоСв ΠΈ ΠΈΡ… стабилизация, Π½Π°Ρ€Π°Ρ‰ΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ слоСв Π½Π° ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ°Ρ… ΠΈΠ· органичСских прСкурсоров ΠΈ ΠΏΠΎΠΏΡ‹Ρ‚ΠΊΠΈ каталитичСского выращивания Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° прямо Π½Π° субстратС (рис. 3).

Рис. 3.

Высокий интСрСс ΠΊ ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΡŽ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° заставляСт исслСдоватСлСй ΠΈΡΠΊΠ°Ρ‚ΡŒ Π½ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ Π΅Π³ΠΎ получСния. Π˜Π·Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° микромСханичСским ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ оказалось довольно Ρ‚Ρ€ΡƒΠ΄ΠΎΠ΅ΠΌΠΊΠΈΠΌ, поэтому Π±ΠΎΠ»ΡŒΡˆΡƒΡŽ ΠΏΠΎΠΏΡƒΠ»ΡΡ€Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π² послСднСС врСмя ΠΏΡ€ΠΈΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π°Π΅Ρ‚ Π°Π»ΡŒΡ‚Π΅Ρ€Π½Π°Ρ‚ΠΈΠ²Π½Ρ‹ΠΉ способ получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° - ΡΠΏΠΈΡ‚Π°ΠΊΡΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ΅ Π²Ρ‹Ρ€Π°Ρ‰ΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅, ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΌ слои Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ Π½Π° повСрхности кристалла SiC, Π½Π°Π³Ρ€Π΅Π²Π°Π΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ Π΄ΠΎ высокой Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹ Π² Π²Π°ΠΊΡƒΡƒΠΌΠ΅.

Π’Π°ΠΊΠΆΠ΅ Ρ€Π°ΡΡΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‚ΡΡ способы ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΎΡ„Π°Π·Π½ΠΎΠ³ΠΎ раздСлСния слоСв Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° с ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ повСрхостно-Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½Ρ‹Ρ… вСщСств (ΠŸΠΠ’), ΡΠΈΠ»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… Π³Π°Π·ΠΎΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Π½Ρ‹Ρ… окислитСлСй Ρ‚ΠΈΠΏΠ° кислорода ΠΈ Π³Π°Π»ΠΎΠ³Π΅Π½ΠΎΠ², расщСплСниС Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°Π·Π²ΡƒΠΊΠΎΠΌ. Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ лист Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚

ΠŸΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ области примСнСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π²ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°ΡŽΡ‚:

Π—Π°ΠΌΠ΅Π½Ρƒ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π²ΠΎΠ»ΠΎΠΊΠΎΠ½ Π² ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ·ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°Ρ…, с Ρ†Π΅Π»ΡŒΡŽ создания Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ лСгковСсных самолСтов ΠΈ спутников;

Π—Π°ΠΌΠ΅Π½Π° крСмния Π² транзисторах;

Π’Π½Π΅Π΄Ρ€Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π² пластмассу, с Ρ†Π΅Π»ΡŒΡŽ придания Π΅ΠΉ элСктропроводности;

Π”Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠΈ Π½Π° основС Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΎΠ±Π½Π°Ρ€ΡƒΠΆΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒ опасныС ΠΌΠΎΠ»Π΅ΠΊΡƒΠ»Ρ‹;

ИспользованиС Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²ΠΎΠΉ ΠΏΡƒΠ΄Ρ€Ρ‹ Π² элСктричСских аккумуляторах, с Ρ†Π΅Π»ΡŒΡŽ увСличСния ΠΈΡ… эффСктивности;

ΠžΠΏΡ‚ΠΎΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½ΠΈΠΊΠ°;

Π‘ΠΎΠ»Π΅Π΅ ΠΊΡ€Π΅ΠΏΠΊΠΈΠΉ, ΠΏΡ€ΠΎΡ‡Π½Ρ‹ΠΉ ΠΈ Π»Π΅Π³ΠΊΠΈΠΉ пластик;

Π“Π΅Ρ€ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Π΅ пластиковыС ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π΅ΠΉΠ½Π΅Ρ€Ρ‹, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ позволят нСдСлями Ρ…Ρ€Π°Π½ΠΈΡ‚ΡŒ Π² Π½Π΅ΠΌ Π΅Π΄Ρƒ, ΠΈ ΠΎΠ½Π° Π±ΡƒΠ΄Π΅Ρ‚ ΠΎΡΡ‚Π°Π²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ свСТСй;

ΠŸΡ€ΠΎΠ·Ρ€Π°Ρ‡Π½ΠΎΠ΅ токопроводящСС ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠ΅ для солнСчных ΠΏΠ°Π½Π΅Π»Π΅ΠΉ ΠΈ для ΠΌΠΎΠ½ΠΈΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ²;

Π‘ΠΎΠ»Π΅Π΅ ΠΊΡ€Π΅ΠΏΠΊΠΈΠ΅ вСтряныС Π΄Π²ΠΈΠ³Π°Ρ‚Π΅Π»ΠΈ;

Π‘ΠΎΠ»Π΅Π΅ устойчивыС ΠΊ мСханичСскому Π²ΠΎΠ·Π΄Π΅ΠΉΡΡ‚Π²ΠΈΡŽ мСдицинскиС ΠΈΠΌΠΏΠ»Π°Π½Ρ‚Π°Ρ‚Ρ‹;

Π›ΡƒΡ‡ΡˆΠ΅Π΅ спортивноС снаряТСниС;

БупСркондСнсаторы;

ВысокомощныС высокочастотныС элСктронныС устройства;

Π˜ΡΠΊΡƒΡΡ‚Π²Π΅Π½Π½Ρ‹Π΅ ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρ‹ для раздСлСния Π΄Π²ΡƒΡ… ТидкостСй Π² Ρ€Π΅Π·Π΅Ρ€Π²ΡƒΠ°Ρ€Π΅;

Π£Π»ΡƒΡ‡ΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ тачскринов, ТидкокристалличСских дисплССв.

Π˜ΡΡΠ»Π΅Π΄ΠΎΠ²Π°Ρ‚Π΅Π»ΠΈ ΠΈΠ· Австралии создали Π±ΡƒΠΌΠ°Π³Ρƒ ΠΈΠ· мноТСства слоёв Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°. Она ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Π»Π° ΡƒΠ΄ΠΈΠ²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ мСханичСскиС свойства, сохраняя Ρ…ΠΎΡ€ΠΎΡˆΡƒΡŽ Π³ΠΈΠ±ΠΊΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΈ Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΡƒΡŽ ΡƒΠΏΡ€ΡƒΠ³ΠΎΡΡ‚ΡŒ. БпСциалисты ΠΈΠ· тСхнологичСского унивСрситСта БиднСя использовали ΠΊΠΎΠΌΠ±ΠΈΠ½Π°Ρ†ΠΈΡŽ химичСской ΠΈ Ρ‚Π΅ΠΏΠ»ΠΎΠ²ΠΎΠΉ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠΈ, Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ Π°ΠΊΠΊΡƒΡ€Π°Ρ‚Π½ΠΎ ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΎΡ‚ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½Ρ‹Π΅ слои, ΠΎΡ‡ΠΈΡΡ‚ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΈΡ… ΠΈ Π²Ρ‹Π»ΠΎΠΆΠΈΡ‚ΡŒ ΠΊΠ°ΠΊ ΠΌΠΎΠ½ΠΎΠ»ΠΈΡ‚ Π² идСально Π²Ρ‹Ρ€ΠΎΠ²Π½Π΅Π½Π½ΡƒΡŽ структуру ΠΈΠ· Π³Π΅ΠΊΡΠ°Π³ΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… Ρ€Π΅ΡˆΡ‘Ρ‚ΠΎΠΊ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠΎΠ² ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π° - Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²ΡƒΡŽ Π±ΡƒΠΌΠ°Π³Ρƒ. Π•Π΅ ΠΏΠ»ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ - Π² ΠΏΡΡ‚ΡŒ-ΡˆΠ΅ΡΡ‚ΡŒ Ρ€Π°Π· Π½ΠΈΠΆΠ΅, Ρ‡Π΅ΠΌ Ρƒ стали, Π° Ρ‚Π²Π΅Ρ€Π΄ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΡ‡Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π² нСсколько Ρ€Π°Π· Π²Ρ‹ΡˆΠ΅

Π’ΠΎ врСмя кристаллизации Π·Π°Ρ€ΠΎΠ΄Ρ‹ΡˆΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΎΠΊΠ°Π·Ρ‹Π²Π°ΡŽΡ‚ΡΡ нСустойчивыми ΠΈΠ·-Π·Π° слишком большого ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡˆΠ΅Π½ΠΈΡ ΠΏΠ΅Ρ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Π° ΠΊ повСрхности. ΠŸΡ€ΠΎΠΈΡΡ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ схлопываниС ΠΊ Π΄Ρ€ΡƒΠ³ΠΈΠΌ Π°Π»Π»ΠΎΡ‚Ρ€ΠΎΠΏΠ½Ρ‹ΠΌ модификациям ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π° (Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚, Π°Π»ΠΌΠ°Π·, Ρ„ΡƒΠ»Π»Π΅Ρ€Π΅Π½Ρ‹, Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠΈ).

ЭкспСримСнты ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Π»ΠΈ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Ρ€Π΅Π·ΠΊΠΎ ΡΠ½ΠΈΠ·ΠΈΡ‚ΡŒ коэффициСнт трСния ΠΈ износ мСталличСских Π΄Π΅Ρ‚Π°Π»Π΅ΠΉ Π±Π΅Π· использования масСл, Π·Π°Π³Ρ€ΡΠ·Π½ΡΡŽΡ‰ΠΈΡ… ΠΎΠΊΡ€ΡƒΠΆΠ°ΡŽΡ‰ΡƒΡŽ срСду. ΠŸΠΎΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠ΅ ΠΈΠ· Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π±Π΅Π·Π²Ρ€Π΅Π΄Π½ΠΎ, Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‰Π°Π΅Ρ‚ ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π» ΠΎΡ‚ ΠΊΠΎΡ€Ρ€ΠΎΠ·ΠΈΠΈ ΠΈ самоориСнтируСтся Π² Π½Π°Ρ‡Π°Π»Π΅ двиТСния Π΄Π΅Ρ‚Π°Π»ΠΈ, обСспСчивая минимальноС Ρ‚Ρ€Π΅Π½ΠΈΠ΅. Π‘ΠΎΠ»Π΅Π΅ Ρ‚ΠΎΠ³ΠΎ, утилизация ΠΈ ΠΏΠΎΠ²Ρ‚ΠΎΡ€Π½ΠΎΠ΅ использованиС Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π½Π΅ Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΠ΅Ρ‚ слоТных Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΉ - достаточно ΠΎΠΏΠΎΠ»ΠΎΡΠ½ΡƒΡ‚ΡŒ Π΄Π΅Ρ‚Π°Π»ΡŒ растворитСлСм ΠΈ ΠΈΠ·Π²Π»Π΅Ρ‡ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½.

Π’ 2004 Π³ΠΎΠ΄Ρƒ Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΠ° ΡƒΡ‡Π΅Π½Ρ‹Ρ… ΠΈΠ· ΠœΠ°Π½Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π΅Ρ€Π° (А. Π“Π΅ΠΉΠΌ, К. НовосСлов) ΠΈΠ·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Π»Π° ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ мСханичСского расщСплСния Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠŸΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠΏΠ»ΠΎΡ‚Π½ΠΎ притираСтся ΠΊ повСрхности Π΄Ρ€ΡƒΠ³ΠΎΠ³ΠΎ вСщСства, оставляя мноТСство Ρ‡Π΅ΡˆΡƒΠ΅ΠΊ Ρ€Π°Π·Π½ΠΎΠΉ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Ρ‹ ΠŸΡ€ΠΈ ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΠΈ оптичСского ΠΈ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΎ силового микроскопов срСди Ρ‡Π΅ΡˆΡƒΠ΅ΠΊ ΠΈΡ‰ΡƒΡ‚ Ρ‚Π΅, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΈΠΌΠ΅ΡŽΡ‚ ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½ΡƒΡŽ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Ρƒ Для Ρ‚Π°ΠΊΠΈΡ… поисков Ρ…ΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎ ΠΏΠΎΠ΄Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ° ΠΈΠ· окислСнного крСмния

ΠŸΡ€ΠΈ Π½Π°Π³Ρ€Π΅Π²Π°Π½ΠΈΠΈ SiC Π΄ΠΎ 1300Β°C Π² свСрхвысоком Π²Π°ΠΊΡƒΡƒΠΌΠ΅ происходит сублимация крСмния, Π² Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ Ρ‡Π΅Π³ΠΎ Π½Π° повСрхности кристалла ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ слои Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°.

Π“Ρ€Π°Ρ„Π΅ΠΌΠ½ (Π°Π½Π³Π». graphene) -- слой Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠΎΠ² ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π°, соСдинённых посрСдством spΠ† связСй Π² Π³Π΅ΠΊΡΠ°Π³ΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ Π΄Π²ΡƒΠΌΠ΅Ρ€Π½ΡƒΡŽ ΠΊΡ€ΠΈΡΡ‚Π°Π»Π»ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ Ρ€Π΅ΡˆΡ‘Ρ‚ΠΊΡƒ. Π•Π³ΠΎ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΡ€Π΅Π΄ΡΡ‚Π°Π²ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΊΠ°ΠΊ ΠΎΠ΄Π½Ρƒ ΠΏΠ»ΠΎΡΠΊΠΎΡΡ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»Ρ‘Π½Π½ΡƒΡŽ ΠΎΡ‚ ΠΎΠ±ΡŠΡ‘ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΎ кристалла. По ΠΎΡ†Π΅Π½ΠΊΠ°ΠΌ, Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°Π΅Ρ‚ большой мСханичСской ΠΆΡ‘ΡΡ‚ΠΊΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΠΈ Ρ…ΠΎΡ€ΠΎΡˆΠ΅ΠΉ Ρ‚Π΅ΠΏΠ»ΠΎΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ (~1 ВПа ΠΈ ~5Π§10 3 Π’Ρ‚Β·ΠΌ?1 ·К?1 соотвСтствСнно). Высокая ΠΏΠΎΠ΄Π²ΠΈΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ носитСлСй Ρ‚ΠΎΠΊΠ° ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠΎΠΌΠ½Π°Ρ‚Π½ΠΎΠΉ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ Π΄Π΅Π»Π°Π΅Ρ‚ Π΅Π³ΠΎ пСрспСктивным ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠΌ для использования Π² самых Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… прилоТСниях, Π² частности, ΠΊΠ°ΠΊ Π±ΡƒΠ΄ΡƒΡ‰ΡƒΡŽ основу наноэлСктроники ΠΈ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΡƒΡŽ Π·Π°ΠΌΠ΅Π½Ρƒ крСмния Π² ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π³Ρ€Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… микросхСмах.

Основной ΠΈΠ· ΡΡƒΡ‰Π΅ΡΡ‚Π²ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΡ… Π² настоящСС врСмя способов получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° основан Π½Π° мСханичСском ΠΎΡ‚Ρ‰Π΅ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΈΠΈ ΠΈΠ»ΠΈ ΠΎΡ‚ΡˆΠ΅Π»ΡƒΡˆΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠΈ слоёв Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°. Он позволяСт ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ Π½Π°ΠΈΠ±ΠΎΠ»Π΅Π΅ качСствСнныС ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†Ρ‹ с высокой ΠΏΠΎΠ΄Π²ΠΈΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ носитСлСй. Π­Ρ‚ΠΎΡ‚ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ Π½Π΅ ΠΏΡ€Π΅Π΄ΠΏΠΎΠ»Π°Π³Π°Π΅Ρ‚ использования ΠΌΠ°ΡΡˆΡ‚Π°Π±Π½ΠΎΠ³ΠΎ производства, ΠΏΠΎΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΡƒ это ручная ΠΏΡ€ΠΎΡ†Π΅Π΄ΡƒΡ€Π°. Π”Ρ€ΡƒΠ³ΠΎΠΉ извСстный способ -- ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ тСрмичСского разлоТСния ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ ΠΊΠ°Ρ€Π±ΠΈΠ΄Π° крСмния Π³ΠΎΡ€Π°Π·Π΄ΠΎ Π±Π»ΠΈΠΆΠ΅ ΠΊ ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½ΠΎΠΌΡƒ производству. ΠŸΠΎΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΡƒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ Π²ΠΏΠ΅Ρ€Π²Ρ‹Π΅ Π±Ρ‹Π» ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ Π² 2004 Π³ΠΎΠ΄Ρƒ, ΠΎΠ½ Π΅Ρ‰Ρ‘ нСдостаточно Ρ…ΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎ ΠΈΠ·ΡƒΡ‡Π΅Π½ ΠΈ ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π»Π΅ΠΊΠ°Π΅Ρ‚ ΠΊ сСбС ΠΏΠΎΠ²Ρ‹ΡˆΠ΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ интСрСс.

Π”Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π» Π½Π΅ являСтся просто кусочком Π΄Ρ€ΡƒΠ³ΠΈΡ… Π°Π»Π»ΠΎΡ‚Ρ€ΠΎΠΏΠ½Ρ‹Ρ… ΠΌΠΎΠ΄ΠΈΡ„ΠΈΠΊΠ°Ρ†ΠΈΠΉ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π°: Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, Π°Π»ΠΌΠ°Π·Π° -- ΠΈΠ·-Π·Π° особСнностСй энСргСтичСского спСктра носитСлСй ΠΎΠ½ проявляСт спСцифичСскиС, Π² ΠΎΡ‚Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ΅ ΠΎΡ‚ Π΄Ρ€ΡƒΠ³ΠΈΡ… Π΄Π²ΡƒΠΌΠ΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… систСм, элСктрофизичСскиС свойства.

Π˜ΡΡ‚ΠΎΡ€ΠΈΡ открытия

Рис. 1.

Π“Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ являСтся Π΄Π²ΡƒΠΌΠ΅Ρ€Π½Ρ‹ΠΌ кристаллом, состоящим ΠΈΠ· ΠΎΠ΄ΠΈΠ½ΠΎΡ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ слоя Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠΎΠ² ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π°, собранных Π² Π³Π΅ΠΊΡΠ°Π³ΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ Ρ€Π΅ΡˆΡ‘Ρ‚ΠΊΡƒ. Π•Π³ΠΎ тСорСтичСскоС исслСдованиС Π½Π°Ρ‡Π°Π»ΠΎΡΡŒ Π·Π°Π΄ΠΎΠ»Π³ΠΎ Π΄ΠΎ получСния Ρ€Π΅Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†ΠΎΠ² ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°, ΠΏΠΎΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΡƒ ΠΈΠ· Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΡΠΎΠ±Ρ€Π°Ρ‚ΡŒ Ρ‚Ρ€Ρ‘Ρ…ΠΌΠ΅Ρ€Π½Ρ‹ΠΉ кристалл Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°. Π“Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ являСтся Π±Π°Π·ΠΎΠΉ для построСния Ρ‚Π΅ΠΎΡ€ΠΈΠΈ этого кристалла. Π“Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ являСтся ΠΏΠΎΠ»ΡƒΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΠΎΠΌ, Π² Π·ΠΎΠ½Π½ΠΎΠΉ структурС Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ отсутствуСт запрСщённая Π·ΠΎΠ½Π°, ΠΏΡ€ΠΈΡ‡Ρ‘ΠΌ Π² Ρ‚ΠΎΡ‡ΠΊΠ°Ρ… соприкосновСния Π²Π°Π»Π΅Π½Ρ‚Π½ΠΎΠΉ Π·ΠΎΠ½Ρ‹ ΠΈ Π·ΠΎΠ½Ρ‹ проводимости энСргСтичСский спСктр элСктронов ΠΈ Π΄Ρ‹Ρ€ΠΎΠΊ Π»ΠΈΠ½Π΅Π΅Π½ ΠΊΠ°ΠΊ функция Π²ΠΎΠ»Π½ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ Π²Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Π°. Π’Π°ΠΊΠΎΠ³ΠΎ Ρ€ΠΎΠ΄Π° спСктром ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°ΡŽΡ‚ бСзмассовыС Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠ½Ρ‹ ΠΈ ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°Ρ€Π΅Π»ΡΡ‚ΠΈΠ²ΠΈΡΡ‚ΡΠΊΠΈΠ΅ частицы, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ Π½Π΅ΠΉΡ‚Ρ€ΠΈΠ½ΠΎ. ΠŸΠΎΡΡ‚ΠΎΠΌΡƒ говорят, Ρ‡Ρ‚ΠΎ эффСктивная масса элСктронов ΠΈ Π΄Ρ‹Ρ€ΠΎΠΊ Π² Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π΅ Π²Π±Π»ΠΈΠ·ΠΈ Ρ‚ΠΎΡ‡ΠΊΠΈ соприкосновСния Π·ΠΎΠ½ Ρ€Π°Π²Π½Π° Π½ΡƒΠ»ΡŽ. Но здСсь стоит Π·Π°ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΡ‚ΡŒ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ, нСсмотря Π½Π° сходство Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠ½ΠΎΠ² ΠΈ бСзмассовых носитСлСй, Π² Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π΅ сущСствуСт нСсколько сущСствСнных Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠΉ, Π΄Π΅Π»Π°ΡŽΡ‰ΠΈΡ… носитСли Π² Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π΅ ΡƒΠ½ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ ΠΏΠΎ своСй физичСской ΠΏΡ€ΠΈΡ€ΠΎΠ΄Π΅, Π° ΠΈΠΌΠ΅Π½Π½ΠΎ: элСктроны ΠΈ Π΄Ρ‹Ρ€ΠΊΠΈ ΡΠ²Π»ΡΡŽΡ‚ΡΡ Ρ„Π΅Ρ€ΠΌΠΈΠΎΠ½Π°ΠΌΠΈ, ΠΈ ΠΎΠ½ΠΈ заряТСны. Π’ настоящСС врСмя Π°Π½Π°Π»ΠΎΠ³ΠΎΠ² для этих бСзмассовых заряТСнных Ρ„Π΅Ρ€ΠΌΠΈΠΎΠ½ΠΎΠ² срСди извСстных элСмСнтарных частиц Π½Π΅Ρ‚.

ΠŸΠΎΠΏΡ‹Ρ‚ΠΊΠΈ получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, ΠΏΡ€ΠΈΠΊΡ€Π΅ΠΏΠ»Ρ‘Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΊ Π΄Ρ€ΡƒΠ³ΠΎΠΌΡƒ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Ρƒ, Π½Π°Ρ‡Π°Π»ΠΈΡΡŒ с экспСримСнтов, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΡ… простой ΠΊΠ°Ρ€Π°Π½Π΄Π°Ρˆ, ΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΠΎΠ»ΠΆΠΈΠ»ΠΈΡΡŒ с использованиСм Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½ΠΎ-силового микроскопа для мСханичСского удалСния слоёв Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, Π½ΠΎ Π½Π΅ достигли успСха. ИспользованиС Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° с Π²Π½Π΅Π΄Ρ€Ρ‘Π½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ (ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Ρ€ΠΊΠ°Π»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚) Π² мСТплоскостноС пространство Ρ‡ΡƒΠΆΠ΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΌΠΈ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ°ΠΌΠΈ (ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ для увСличСния расстояния ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ сосСдними слоями ΠΈ ΠΈΡ… расщСплСния) Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ Π½Π΅ ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π»ΠΎ ΠΊ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Ρƒ.

Бтабилизация Π΄Π²ΡƒΠΌΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠΉ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ Π΄ΠΎΡΡ‚ΠΈΠ³Π°Π»Π°ΡΡŒ благодаря Π½Π°Π»ΠΈΡ‡ΠΈΡŽ связи с Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΌ слоСм диэлСктрика SiO 2 ΠΏΠΎ Π°Π½Π°Π»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ с Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΌΠΈ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠ°ΠΌΠΈ, Π²Ρ‹Ρ€Π°Ρ‰Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ с ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ МПЭ. Π’ΠΏΠ΅Ρ€Π²Ρ‹Π΅ Π±Ρ‹Π»ΠΈ ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½Ρ‹ ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ, эффСкт Π¨ΡƒΠ±Π½ΠΈΠΊΠΎΠ²Π° -- Π΄Π΅ Π“Π°Π°Π·Π°, эффСкт Π₯ΠΎΠ»Π»Π° для ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†ΠΎΠ², состоящих ΠΈΠ· ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π° с Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ°Ρ€Π½ΠΎΠΉ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ.

ΠœΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ ΠΎΡ‚ΡˆΠ΅Π»ΡƒΡˆΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΡ являСтся довольно простым ΠΈ Π³ΠΈΠ±ΠΊΠΈΠΌ, ΠΏΠΎΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΡƒ позволяСт Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π°Ρ‚ΡŒ со всСми слоистыми кристаллами, Ρ‚ΠΎ Π΅ΡΡ‚ΡŒ Ρ‚Π΅ΠΌΠΈ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°ΠΌΠΈ, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΏΡ€Π΅Π΄ΡΡ‚Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‚ΡΡ ΠΊΠ°ΠΊ слабо (ΠΏΠΎ ΡΡ€Π°Π²Π½Π΅Π½ΠΈΡŽ с силами Π² плоскости) связанныС слои Π΄Π²ΡƒΠΌΠ΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… кристаллов.

ΠŸΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅

Рис. 2.

ΠšΡƒΡΠΎΡ‡ΠΊΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°ΡŽΡ‚ ΠΏΡ€ΠΈ мСханичСском воздСйствии Π½Π° высокоориСнтированный пиролитичСский Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ ΠΈΠ»ΠΈ киш-Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚. Π‘Π½Π°Ρ‡Π°Π»Π° Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠ΅ слои Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠΏΠΎΠΌΠ΅Ρ‰Π°ΡŽΡ‚ ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ Π»ΠΈΠΏΠΊΠΈΠΌΠΈ Π»Π΅Π½Ρ‚Π°ΠΌΠΈ ΠΈ ΠΎΡ‚Ρ‰Π΅ΠΏΠ»ΡΡŽΡ‚ Ρ€Π°Π· Π·Π° Ρ€Π°Π·ΠΎΠΌ Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠ΅ слои Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, ΠΏΠΎΠΊΠ° Π½Π΅ Π±ΡƒΠ΄Π΅Ρ‚ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ достаточно Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΉ слой (срСди ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΈΡ… ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΏΠΎΠΏΠ°Π΄Π°Ρ‚ΡŒΡΡ ΠΈ однослойныС, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΈ ΠΏΡ€Π΅Π΄ΡΡ‚Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‚ интСрСс). ПослС ΠΎΡ‚ΡˆΠ΅Π»ΡƒΡˆΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΡ скотч с Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΌΠΈ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠ°ΠΌΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΏΡ€ΠΈΠΆΠΈΠΌΠ°ΡŽΡ‚ ΠΊ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ΅ окислСнного крСмния. ΠŸΡ€ΠΈ этом Ρ‚Ρ€ΡƒΠ΄Π½ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΡƒ ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Ρ‘Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π° ΠΈ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡ‹ Π² фиксированных частях ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ (Π³ΠΎΡ€ΠΈΠ·ΠΎΠ½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Ρ‹ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ ΡΠΎΡΡ‚Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‚ ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎ ΠΎΠΊΠΎΠ»ΠΎ 10 ΠΌΠΊΠΌ). НайдСнныС с ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ оптичСского микроскопа (ΠΎΠ½ΠΈ слабо Π²ΠΈΠ΄Π½Ρ‹ ΠΏΡ€ΠΈ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Π΅ диэлСктрика 300 Π½ΠΌ) ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ ΠΏΠΎΠ΄Π³ΠΎΡ‚Π°Π²Π»ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‚ для ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½ΠΈΠΉ. Π‘ ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½ΠΎ-силового микроскопа ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»ΡΡŽΡ‚ Ρ€Π΅Π°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Ρƒ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° (ΠΎΠ½Π° ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π²Π°Ρ€ΡŒΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ Π² ΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Π°Ρ… 1 Π½ΠΌ для Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°). Π˜ΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡ ΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Π½ΡƒΡŽ Π»ΠΈΡ‚ΠΎΠ³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡŽ ΠΈ Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½ΠΎΠ΅ ΠΏΠ»Π°Π·ΠΌΠ΅Π½Π½ΠΎΠ΅ Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅, Π·Π°Π΄Π°ΡŽΡ‚ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡƒ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ для элСктрофизичСских ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½ΠΈΠΉ (холловский мост для магнитотранспортных ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½ΠΈΠΉ).

ΠœΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, встроСнного Π² ΠΏΠΎΠ»ΠΈΠΌΠ΅Ρ€Π½ΡƒΡŽ ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρƒ. Π‘Π»Π΅Π΄ΡƒΠ΅Ρ‚ ΡƒΠΏΠΎΠΌΡΠ½ΡƒΡ‚ΡŒ Π΅Ρ‰Ρ‘ Π΄Π²Π° ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π°: радиочастотноС плазмохимичСскоС осаТдСниС ΠΈΠ· Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠΉ Ρ„Π°Π·Ρ‹ (Π°Π½Π³Π». PECVD), рост ΠΏΡ€ΠΈ высоком Π΄Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ ΠΈ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ (Π°Π½Π³Π». HPHT). Из этих ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ² Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ послСдний ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ для получСния ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ большой ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Π°Π΄ΠΈ.

Графитовая ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠ° формируСтся ΠΏΡ€ΠΈ тСрмичСском Ρ€Π°Π·Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΈ повСрхности ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ SiC (этот ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π³ΠΎΡ€Π°Π·Π΄ΠΎ Π±Π»ΠΈΠΆΠ΅ ΠΊ ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½ΠΎΠΌΡƒ производству), ΠΏΡ€ΠΈΡ‡Ρ‘ΠΌ качСство Π²Ρ‹Ρ€Π°Ρ‰Π΅Π½Π½ΠΎΠΉ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ зависит ΠΎΡ‚ Ρ‚ΠΎΠ³ΠΎ, какая стабилизация Ρƒ кристалла: C-стабилизированная ΠΈΠ»ΠΈ Si-стабилизированная ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ -- Π² ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠΌ случаС качСство ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ Π²Ρ‹ΡˆΠ΅. Показано, Ρ‡Ρ‚ΠΎ, нСсмотря Π½Π° Ρ‚ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Π° слоя Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° составляСт большС ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ монослоя, Π² проводимости участвуСт Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ ΠΎΠ΄ΠΈΠ½ слой Π² нСпосрСдствСнной близости ΠΎΡ‚ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ, ΠΏΠΎΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΡƒ Π½Π° Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Π΅ SiC-C ΠΈΠ·-Π·Π° разности Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ Π²Ρ‹Ρ…ΠΎΠ΄Π° Π΄Π²ΡƒΡ… ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² образуСтся нСскомпСнсированный заряд. Бвойства Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΉ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ оказались эквивалСнтны свойствам Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°.

БущСствуСт нСсколько способов для получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»ΠΈΡ‚ΡŒ Π½Π° Ρ‚Ρ€ΠΈ большиС Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΡ‹. К ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠΉ Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΠ΅ относятся мСханичСскиС ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, основной ΠΈΠ· ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… мСханичСскоС ΠΎΡ‚ΡˆΠ΅Π»ΡƒΡˆΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ Π½Π° настоящий ΠΌΠΎΠΌΠ΅Π½Ρ‚ (2008) являСтся Π½Π°ΠΈΠ±ΠΎΠ»Π΅Π΅ распространённым ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ для производства Π±ΠΎΠ»ΡŒΡˆΠΈΡ… ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†ΠΎΠ² с Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΎΠΌ ~10 ΠΌΠΊΠΌ ΠΏΡ€ΠΈΠ³ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… для транспортных ΠΈ оптичСских ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½ΠΈΠΉ. Ко Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΉ Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΠ΅ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ² относят химичСскиС ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΎΡ‚Π»ΠΈΡ‡Π°ΡŽΡ‚ΡΡ большим ΠΏΡ€ΠΎΡ†Π΅Π½Ρ‚ΠΎΠΌ Π²Ρ‹Ρ…ΠΎΠ΄Π° ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°, Π½ΠΎ ΠΌΠ°Π»Ρ‹ΠΌΠΈ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π°ΠΌΠΈ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ ~10-100 Π½ΠΌ. К послСднСй Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΠ΅ относятся ΡΠΏΠΈΡ‚Π°ΠΊΡΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ ΠΈ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ тСрмичСского разлоТСния SiC ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ благодаря ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΌ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Π²Ρ‹Ρ€Π°ΡΡ‚ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°.

ΠœΠ΅Ρ…Π°Π½ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΠΈΠ΅ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹

ΠŸΡ€ΠΈ мСханичСском воздСйствии Π½Π° высокоориСнтированный пиролитичСский Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ (АббрСвиатура Π’ΠžΠŸΠ“ ΠΎΠ±ΠΎΠ·Π½Π°Ρ‡Π°Π΅Ρ‚ высокоориСнтированный пиролитичСский Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ являСтся высокоориСнтированной Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠΎΠΉ пиролитичСского Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° с ΡƒΠ³Π»ΠΎΠ²Ρ‹ΠΌ распространСниСм c-оси мСньшС Ρ‡Π΅ΠΌ 1 градус. Он ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ ΠΊΠ°ΠΊ инструмСнт ΠΊΠ°Π»ΠΈΠ±Ρ€ΠΎΠ²ΠΊΠΈ для микроскопичСских исслСдований, Ρ‚Π°ΠΊΠΈΡ… ΠΊΠ°ΠΊ ΡΠΊΠ°Π½ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰Π°Ρ Ρ‚ΡƒΠ½Π½Π΅Π»ΡŒΠ½Π°Ρ микроскопия ΠΈΠ»ΠΈ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½ΠΎ-силовая микроскопия. ΠšΠΎΠΌΠΌΠ΅Ρ€Ρ‡Π΅ΡΠΊΠΈΠΉ Π’ΠžΠŸΠ“ ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎ производится ΠΎΡ‚ΠΆΠΈΠ³ΠΎΠΌ ΠΏΡ€ΠΈ 3300 K Π’ΠžΠŸΠ“ Π²Π΅Π΄Π΅Ρ‚ сСбя ΠΊΠ°ΠΊ ΠΎΡ‡Π΅Π½ΡŒ чистый ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π». Π₯ΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎ ΠΎΡ‚Ρ€Π°ΠΆΠ°Π΅Ρ‚ свСт ΠΈ являСтся Ρ…ΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΈΠΌ ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄Π½ΠΈΠΊΠΎΠΌ элСктричСства, Π½ΠΎ ΠΎΡ‡Π΅Π½ΡŒ Π»ΠΎΠΌΠΊΠΈΠΉ. HOPG использовался ΠΊΠ°ΠΊ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ° Π²ΠΎ ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΈΡ… Π½Π°ΡƒΡ‡Π½Ρ‹Ρ… экспСримСнтах.) ΠΈΠ»ΠΈ киш-Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π²ΠΏΠ»ΠΎΡ‚ΡŒ Π΄ΠΎ ~100 ΠΌΠΊΠΌ. Π‘Π½Π°Ρ‡Π°Π»Π° Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠ΅ слои Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠΏΠΎΠΌΠ΅Ρ‰Π°ΡŽΡ‚ ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ Π»ΠΈΠΏΠΊΠΈΠΌΠΈ Π»Π΅Π½Ρ‚Π°ΠΌΠΈ ΠΈ ΠΎΡ‚Ρ‰Π΅ΠΏΠ»ΡΡŽΡ‚ Ρ€Π°Π· Π·Π° Ρ€Π°Π·ΠΎΠΌ Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠ΅ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, ΠΏΠΎΠΊΠ° Π½Π΅ Π±ΡƒΠ΄Π΅Ρ‚ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ достаточно Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΉ слой (срСди ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΈΡ… ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΏΠΎΠΏΠ°Π΄Π°Ρ‚ΡŒΡΡ ΠΈ однослойныС, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΈ ΠΏΡ€Π΅Π΄ΡΡ‚Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‚ интСрСс). ПослС ΠΎΡ‚ΡˆΠ΅Π»ΡƒΡˆΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΡ скотч с Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΌΠΈ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠ°ΠΌΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΏΡ€ΠΈΠΆΠΈΠΌΠ°ΡŽΡ‚ ΠΊ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ΅ окислСнного крСмния. ΠŸΡ€ΠΈ этом Ρ‚Ρ€ΡƒΠ΄Π½ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΡƒ ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Ρ‘Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π° ΠΈ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡ‹ Π² фиксированных частях ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ (Π³ΠΎΡ€ΠΈΠ·ΠΎΠ½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Ρ‹ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ ΡΠΎΡΡ‚Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‚ ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎ ΠΎΠΊΠΎΠ»ΠΎ 10 ΠΌΠΊΠΌ). НайдСнныС с ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ оптичСского микроскопа (ΠΎΠ½ΠΈ слабо Π²ΠΈΠ΄Π½Ρ‹ ΠΏΡ€ΠΈ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Π΅ диэлСктрика 300 Π½ΠΌ) ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ ΠΏΠΎΠ΄Π³ΠΎΡ‚Π°Π²Π»ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‚ для ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½ΠΈΠΉ. Π‘ ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½ΠΎ-силового микроскопа ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»ΡΡŽΡ‚ Ρ€Π΅Π°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Ρƒ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° (ΠΎΠ½Π° ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π²Π°Ρ€ΡŒΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ Π² ΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Π°Ρ… 1 Π½ΠΌ для Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°). Π“Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΡ€ΠΈ ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΠΈ рамановского рассСяния свСта ΠΈΠ»ΠΈ ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ ΠΊΠ²Π°Π½Ρ‚ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ эффСкта Π₯ΠΎΠ»Π»Π°. Π˜ΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡ ΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Π½ΡƒΡŽ Π»ΠΈΡ‚ΠΎΠ³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡŽ ΠΈ Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½ΠΎΠ΅ ΠΏΠ»Π°Π·ΠΌΠ΅Π½Π½ΠΎΠ΅ Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅, Π·Π°Π΄Π°ΡŽΡ‚ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡƒ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ для элСктрофизичСских ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½ΠΈΠΉ (холловский мост для магнитотранспортных ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½ΠΈΠΉ).

Π•Ρ‰Π΅ ΠΎΠ΄ΠΈΠ½ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ Π·Π°ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Π΅Ρ‚ΡΡ Π² Ρ‚ΠΎΠΌ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΎΠΊΠΈΡΠ»Π΅Π½Π½ΡƒΡŽ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΡƒ крСмния ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Π²Π°ΡŽΡ‚ эпоксидным ΠΊΠ»Π΅Π΅ΠΌ (Π² Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π΅ использовался слой Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ ~10 ΠΌΠΊΠΌ) ΠΈ Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΡƒΡŽ пластинку Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠΏΡ€ΠΈΠΆΠΈΠΌΠ°ΡŽΡ‚ ΠΊ клСю ΠΏΡ€ΠΈ ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΠΈ прСсса. ПослС удалСния Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠΉ пластинки с ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ Π»ΠΈΠΏΠΊΠΎΠΉ Π»Π΅Π½Ρ‚Ρ‹ Π½Π° повСрхности клСя ΠΎΡΡ‚Π°ΡŽΡ‚ΡΡ области с Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠΌ ΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ΠΎΠΌ. Π’ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Ρƒ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° опрСдСляли с ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ ΠΊΠΎΠΌΠ±ΠΈΠ½Π°Ρ†ΠΈΠΎΠ½Π½ΠΎΠ³ΠΎ рассСяния свСта ΠΈ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½ΠΎ-силовым микроскопом измСряли ΡˆΠ΅Ρ€ΠΎΡ…ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, которая оказалась Ρ€Π°Π²Π½ΠΎΠΉ всСго 0.16 Π½ΠΌ (Π² Π΄Π²Π° Ρ€Π°Π·Π° мСньшС ΡˆΠ΅Ρ€ΠΎΡ…ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΠΎΡΡ‚ΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π½Π° ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ΅ крСмния).

Эпитаксия ΠΈ Ρ€Π°Π·Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅

Π‘Π»Π΅Π΄ΡƒΠ΅Ρ‚ ΡƒΠΏΠΎΠΌΡΠ½ΡƒΡ‚ΡŒ Π΅Ρ‰Ρ‘ Π΄Π²Π° ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π°: радиочастотноС плазмохимичСскоС осаТдСниС ΠΈΠ· Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠΉ Ρ„Π°Π·Ρ‹ (Π°Π½Π³Π». PECVD), рост ΠΏΡ€ΠΈ высоком Π΄Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ ΠΈ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ (Π°Π½Π³Π». HPHT). Из этих ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ² Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ послСдний ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ для получСния ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ большой ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Π°Π΄ΠΈ.

Графитовая ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠ° формируСтся ΠΏΡ€ΠΈ тСрмичСском Ρ€Π°Π·Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΈ повСрхности ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ SiC (этот ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π³ΠΎΡ€Π°Π·Π΄ΠΎ Π±Π»ΠΈΠΆΠ΅ ΠΊ ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½ΠΎΠΌΡƒ производству), ΠΏΡ€ΠΈΡ‡Ρ‘ΠΌ качСство Π²Ρ‹Ρ€Π°Ρ‰Π΅Π½Π½ΠΎΠΉ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ зависит ΠΎΡ‚ Ρ‚ΠΎΠ³ΠΎ, какая стабилизация Ρƒ кристалла: C-стабилизированная ΠΈΠ»ΠΈ Si-стабилизированная ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ -- Π² ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠΌ случаС качСство ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ Π²Ρ‹ΡˆΠ΅. НСсмотря Π½Π° Ρ‚ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Π° слоя Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° составляСт большС ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ монослоя, Π² проводимости участвуСт Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ ΠΎΠ΄ΠΈΠ½ слой Π² нСпосрСдствСнной близости ΠΎΡ‚ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ, ΠΏΠΎΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΡƒ Π½Π° Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Π΅ SiC-C ΠΈΠ·-Π·Π° разности Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ Π²Ρ‹Ρ…ΠΎΠ΄Π° Π΄Π²ΡƒΡ… ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² образуСтся нСскомпСнсированный заряд. Бвойства Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΉ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ оказались эквивалСнтны свойствам Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°.

Π“Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Π²Ρ‹Ρ€Π°ΡΡ‚ΠΈΡ‚ΡŒ Π½Π° мСталличСских ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ°Ρ… рутСния ΠΈ иридия.

Π”Ρ€ΡƒΠ³ΠΈΠ΅ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹

Если кристалл пиролитичСского Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠΈ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΡƒ ΠΏΠΎΠΌΠ΅ΡΡ‚ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ элСктродами, Ρ‚ΠΎ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Π΄ΠΎΠ±ΠΈΡ‚ΡŒΡΡ Ρ‚ΠΎΠ³ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ кусочки Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° с повСрхности, срСди ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΎΠΊΠ°Π·Π°Ρ‚ΡŒΡΡ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ°Ρ€Π½ΠΎΠΉ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Ρ‹, ΠΏΠΎΠ΄ дСйствиСм элСктричСского поля ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Ρ‰Π°Ρ‚ΡŒΡΡ Π½Π° ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΡƒ окислСнного крСмния. Для прСдотвращСния пробоя (ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ элСктродами ΠΏΡ€ΠΈΠΊΠ»Π°Π΄Ρ‹Π²Π°Π»ΠΈ напряТСниС ΠΎΡ‚ 1 Π΄ΠΎ 13 ΠΊΠ’) ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ элСктродами Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ ΠΏΠΎΠΌΠ΅Ρ‰Π°Π»ΠΈ Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΡƒΡŽ пластину ΡΠ»ΡŽΠ΄Ρ‹.

НСкоторая комбинация мСханичСского ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π° (Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ΠΎΠ²Ρ‹ΠΌ стСрТнСм ΠΏΠΈΡˆΡƒΡ‚ ΠΏΠΎ повСрхности ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ крСмния, оставляя ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ ΠΏΡ€ΠΈ Ρ€Π°Π·Ρ€ΡƒΡˆΠ΅Π½ΠΈΠΈ) ΠΈ ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰Π΅Π³ΠΎ высокотСмпСратурного ΠΎΡ‚ΠΆΠΈΠ³Π° (~1100 K) использована для получСния Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΡ… слоёв Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° Π²ΠΏΠ»ΠΎΡ‚ΡŒ Π΄ΠΎ однослойных ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ.

Π’ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½Ρ‹Π΅ примСнСния

БчитаСтся, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π½Π° основС Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΡΠΊΠΎΠ½ΡΡ‚Ρ€ΡƒΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ баллистичСский транзистор. Π‘Ρ‹Π» ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ ΠΏΠΎΠ»Π΅Π²ΠΎΠΉ транзистор Π½Π° Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π΅, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ ΠΊΠ²Π°Π½Ρ‚ΠΎΠ²ΠΎ-ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Ρ€Ρ„Π΅Ρ€Π΅Π½Ρ†ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹ΠΉ ΠΏΡ€ΠΈΠ±ΠΎΡ€. Π˜ΡΡΠ»Π΅Π΄ΠΎΠ²Π°Ρ‚Π΅Π»ΠΈ ΠΏΠΎΠ»Π°Π³Π°ΡŽΡ‚, Ρ‡Ρ‚ΠΎ благодаря ΠΈΡ… достиТСниям Π² скором Π²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½ΠΈ появится Π½ΠΎΠ²Ρ‹ΠΉ класс Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²ΠΎΠΉ наноэлСктроники с Π±Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠΉ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ транзисторов Π΄ΠΎ 10 Π½ΠΌ. Π”Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ транзистор ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°Π΅Ρ‚ большим Ρ‚ΠΎΠΊΠΎΠΌ ΡƒΡ‚Π΅Ρ‡ΠΊΠΈ, Ρ‚ΠΎ Π΅ΡΡ‚ΡŒ нСльзя Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»ΠΈΡ‚ΡŒ Π΄Π²Π° состояния с Π·Π°ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚Ρ‹ΠΌ ΠΈ ΠΎΡ‚ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚Ρ‹ΠΌ ΠΊΠ°Π½Π°Π»ΠΎΠΌ.

Π˜ΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Π½Π°ΠΏΡ€ΡΠΌΡƒΡŽ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΏΡ€ΠΈ создании ΠΏΠΎΠ»Π΅Π²ΠΎΠ³ΠΎ транзистора Π±Π΅Π· Ρ‚ΠΎΠΊΠΎΠ² ΡƒΡ‚Π΅Ρ‡ΠΊΠΈ Π½Π΅ прСдставляСтся Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½Ρ‹ΠΌ благодаря ΠΎΡ‚ΡΡƒΡ‚ΡΡ‚Π²ΠΈΡŽ Π·Π°ΠΏΡ€Π΅Ρ‰Ρ‘Π½Π½ΠΎΠΉ Π·ΠΎΠ½Ρ‹ Π² этом ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π΅, ΠΏΠΎΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΡƒ нСльзя Π΄ΠΎΠ±ΠΈΡ‚ΡŒΡΡ сущСствСнной разности Π² сопротивлСнии ΠΏΡ€ΠΈ Π»ΡŽΠ±Ρ‹Ρ… ΠΏΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠΆΠ΅Π½Π½Ρ‹Ρ… напряТСниях ΠΊ Π·Π°Ρ‚Π²ΠΎΡ€Ρƒ, Ρ‚ΠΎ Π΅ΡΡ‚ΡŒ Π½Π΅ получаСтся Π·Π°Π΄Π°Ρ‚ΡŒ Π΄Π²Π° состояния ΠΏΡ€ΠΈΠ³ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… для Π΄Π²ΠΎΠΈΡ‡Π½ΠΎΠΉ Π»ΠΎΠ³ΠΈΠΊΠΈ: проводящСС ΠΈ нСпроводящСС. Π‘Π½Π°Ρ‡Π°Π»Π° Π½ΡƒΠΆΠ½ΠΎ ΡΠΎΠ·Π΄Π°Ρ‚ΡŒ ΠΊΠ°ΠΊΠΈΠΌ-Π½ΠΈΠ±ΡƒΠ΄ΡŒ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠΌ Π·Π°ΠΏΡ€Π΅Ρ‰Ρ‘Π½Π½ΡƒΡŽ Π·ΠΎΠ½Ρƒ достаточной ΡˆΠΈΡ€ΠΈΠ½Ρ‹ ΠΏΡ€ΠΈ Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‡Π΅ΠΉ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ (Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ тСрмичСски Π²ΠΎΠ·Π±ΡƒΠΆΠ΄Ρ‘Π½Π½Ρ‹Π΅ носитСли Π΄Π°Π²Π°Π»ΠΈ ΠΌΠ°Π»Ρ‹ΠΉ Π²ΠΊΠ»Π°Π΄ Π² ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ). Один ΠΈΠ· Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½Ρ‹Ρ… способов ΠΏΡ€Π΅Π΄Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ Π² Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π΅. Π’ этой ΡΡ‚Π°Ρ‚ΡŒΠ΅ прСдлагаСтся ΡΠΎΠ·Π΄Π°Ρ‚ΡŒ Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠ΅ полоски Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° с Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΉ ΡˆΠΈΡ€ΠΈΠ½ΠΎΠΉ, Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ благодаря ΠΊΠ²Π°Π½Ρ‚ΠΎΠ²ΠΎ-Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠΌΡƒ эффСкту ΡˆΠΈΡ€ΠΈΠ½Π° Π·Π°ΠΏΡ€Π΅Ρ‰Ρ‘Π½Π½ΠΎΠΉ Π·ΠΎΠ½Ρ‹ Π±Ρ‹Π»Π° достаточной для ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Ρ…ΠΎΠ΄Π° Π² диэлСктричСскоС состояниС (Π·Π°ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΎΠ΅ состояниС) ΠΏΡ€ΠΈΠ±ΠΎΡ€Π° ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠΎΠΌΠ½Π°Ρ‚Π½ΠΎΠΉ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ (28 мэВ соотвСтствуСт ΡˆΠΈΡ€ΠΈΠ½Π΅ полоски 20 Π½ΠΌ). Благодаря высокой подвиТности (имССтся Π² Π²ΠΈΠ΄Ρƒ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΏΠΎΠ΄Π²ΠΈΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π²Ρ‹ΡˆΠ΅ Ρ‡Π΅ΠΌ Π² ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠΈ, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅ΠΌΠΎΠΌ Π² микроэлСктроникС) 10 4 В·см?1 ·с?1 быстродСйствиС Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠ³ΠΎ транзистора Π±ΡƒΠ΄Π΅Ρ‚ Π·Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Π½ΠΎ Π²Ρ‹ΡˆΠ΅. НСсмотря Π½Π° Ρ‚ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ это устройство ΡƒΠΆΠ΅ способно Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π°Ρ‚ΡŒ ΠΊΠ°ΠΊ транзистор, Π·Π°Ρ‚Π²ΠΎΡ€ ΠΊ Π½Π΅ΠΌΡƒ Π΅Ρ‰Ρ‘ Π½Π΅ создан.

Другая ΠΎΠ±Π»Π°ΡΡ‚ΡŒ примСнСния Π·Π°ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Π΅Ρ‚ΡΡ Π² использовании Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π² качСствС ΠΎΡ‡Π΅Π½ΡŒ Ρ‡ΡƒΠ²ΡΡ‚Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ сСнсора для обнаруТСния ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… ΠΌΠΎΠ»Π΅ΠΊΡƒΠ» химичСских вСщСств, присоСдинённых ΠΊ повСрхности ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ.

Π•Ρ‰Ρ‘ ΠΎΠ΄Π½Π° пСрспСктивная ΠΎΠ±Π»Π°ΡΡ‚ΡŒ примСнСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° -- Π΅Π³ΠΎ использованиС для изготовлСния элСктродов Π² ионисторах (супСркондСнсаторах) для использования ΠΈΡ… Π² качСствС пСрСзаряТаСмых источников Ρ‚ΠΎΠΊΠ°.

Π’ΠΎΠ»ΠΎΠΊΠ½Π° Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΏΠΎΠ΄ ΡΠΊΠ°Π½ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠΌ элСктронным микроскопом. Чистый Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ восстановлСн ΠΈΠ· оксида Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° (GO) Π² ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ»Π½ΠΎΠ²ΠΎΠΉ ΠΏΠ΅Ρ‡ΠΈ. ΠœΠ°ΡΡˆΡ‚Π°Π± 40 ΠΌΠΊΠΌ (слСва) ΠΈ 10 ΠΌΠΊΠΌ (справа). Π€ΠΎΡ‚ΠΎ: Jieun Yang, Damien Voiry, Jacob Kupferberg / Rutgers University

Π“Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ - 2D-модификация ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π°, образованная слоСм Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ Π² ΠΎΠ΄ΠΈΠ½ Π°Ρ‚ΠΎΠΌ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π°. ΠœΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π» ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°Π΅Ρ‚ высокой ΠΏΡ€ΠΎΡ‡Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ, высокой Ρ‚Π΅ΠΏΠ»ΠΎΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΠΈ ΡƒΠ½ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ Ρ„ΠΈΠ·ΠΈΠΊΠΎ-химичСскими свойствами. Он дСмонстрируСт ΠΌΠ°ΠΊΡΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ ΠΏΠΎΠ΄Π²ΠΈΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ элСктронов срСди всСх извСстных ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² Π½Π° Π—Π΅ΠΌΠ»Π΅. Π­Ρ‚ΠΎ Π΄Π΅Π»Π°Π΅Ρ‚ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ практичСски ΠΈΠ΄Π΅Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠΌ Π² самых Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… прилоТСниях, Π² Ρ‚ΠΎΠΌ числС Π² элСктроникС, ΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€Π°Ρ…, элСмСнтах питания, ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ·ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°Ρ… ΠΈ Ρ‚.Π΄. Π”Π΅Π»ΠΎ Π·Π° ΠΌΠ°Π»Ρ‹ΠΌ - Π½Π°ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒΡΡ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ качСствСнныС слои Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π² ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°ΡΡˆΡ‚Π°Π±Π°Ρ….

Π₯ΠΈΠΌΠΈΠΊΠΈ ΠΈΠ· РатгСрского унивСрситСта (БША) нашли простой ΠΈ быстрый ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ производства высококачСствСнного Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΏΡƒΡ‚Ρ‘ΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠΈ оксида Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π² ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎΠΉ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ»Π½ΠΎΠ²ΠΎΠΉ ΠΏΠ΅Ρ‡ΠΈ . ΠœΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ Π½Π° ΡƒΠ΄ΠΈΠ²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠΈΡ‚ΠΈΠ²Π½Ρ‹ΠΉ ΠΈ эффСктивный.

Оксид Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° - соСдинСниС ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π°, Π²ΠΎΠ΄ΠΎΡ€ΠΎΠ΄Π° ΠΈ кислорода Π² Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… ΡΠΎΠΎΡ‚Π½ΠΎΡˆΠ΅Π½ΠΈΡΡ…, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ΅ образуСтся ΠΏΡ€ΠΈ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ΅ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΡΠΈΠ»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ окислитСлями. Π§Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ ΠΈΠ·Π±Π°Π²ΠΈΡ‚ΡŒΡΡ ΠΎΡ‚ ΠΎΡΡ‚Π°Π²ΡˆΠ΅Π³ΠΎΡΡ кислорода Π² оксидС Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, Π° Π·Π°Ρ‚Π΅ΠΌ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ чистый Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ Π² Π΄Π²ΡƒΠΌΠ΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… листах, Π½ΡƒΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠΆΠΈΡ‚ΡŒ Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ усилия.

Оксид Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΡΠΌΠ΅ΡˆΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‚ с ΡΠΈΠ»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ Ρ‰Π΅Π»ΠΎΡ‡Π°ΠΌΠΈ ΠΈ Π΅Ρ‰Ρ‘ дальшС Π²ΠΎΡΡΡ‚Π°Π½Π°Π²Π»ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‚ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π». Π’ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°ΡŽΡ‚ΡΡ мономолСкулярныС листы с остатками кислорода. Π­Ρ‚ΠΈ листы принято Π½Π°Π·Ρ‹Π²Π°Ρ‚ΡŒ оксидом Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° (GO). Π₯ΠΈΠΌΠΈΠΊΠΈ испробовали Ρ€Π°Π·Π½Ρ‹Π΅ способы удалСния лишнСго кислорода ΠΈΠ· GO ( , , , ), Π½ΠΎ восстановлСнный Ρ‚Π°ΠΊΠΈΠΌΠΈ способами GO (rGO) остаётся сильно нСупорядочСнным ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠΌ, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ Π΄Π°Π»Ρ‘ΠΊ ΠΏΠΎ своим свойствам ΠΎΡ‚ настоящСго чистого Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ химичСского осаТдСния ΠΈΠ· Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠΉ Ρ„Π°Π·Ρ‹ (Π₯ΠžΠ“Π€ ΠΈΠ»ΠΈ CVD).

Π”Π°ΠΆΠ΅ Π² нСупорядочСнной Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠ΅ rGO ΠΏΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ ΠΏΠΎΠ»Π΅Π·Π΅Π½ для энСргоноситСлСй ( , , , , ) ΠΈ ΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ² ( , , , ), Π½ΠΎ для извлСчСния максимальной Π²Ρ‹Π³ΠΎΠ΄Ρ‹ ΠΎΡ‚ ΡƒΠ½ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… свойств Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π² элСктроникС Π½ΡƒΠΆΠ½ΠΎ Π½Π°ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒΡΡ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ чистый качСствСнный Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΈΠ· GO.

Π₯ΠΈΠΌΠΈΠΊΠΈ ΠΈΠ· РатгСрского унивСрситСта ΠΏΡ€Π΅Π΄Π»Π°Π³Π°ΡŽΡ‚ простой ΠΈ быстрый способ восстановлСния GO Π΄ΠΎ чистого Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡ 1-2-сСкундныС ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΡ‹ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ»Π½ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ излучСния. Как Π²ΠΈΠ΄Π½ΠΎ Π½Π° Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΠΊΠ°Ρ…, Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ Β«ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ»Π½ΠΎΠ²Ρ‹ΠΌ восстановлСниСм» (MW-rGO) ΠΏΠΎ своим свойствам Π½Π°ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Π±Π»ΠΈΠΆΠ΅ ΠΊ Ρ‡ΠΈΡΡ‚Π΅ΠΉΡˆΠ΅ΠΌΡƒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Ρƒ, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠΌΡƒ с ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ Π₯ΠžΠ“Π€.


ЀизичСскиС характСристики MW-rGO, ΠΏΠΎ ΡΡ€Π°Π²Π½Π΅Π½ΠΈΡŽ с Π½Π΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ½ΡƒΡ‚Ρ‹ΠΌ оксидом Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° GO, восстановлСнным оксидом Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° rGO ΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠΌ, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ химичСского осаТдСния ΠΈΠ· Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠΉ Ρ„Π°Π·Ρ‹ (CVD). ΠŸΠΎΠΊΠ°Π·Π°Π½Ρ‹ Ρ‚ΠΈΠΏΠΈΡ‡Π½Ρ‹Π΅ Ρ…Π»ΠΎΠΏΡŒΡ GO, осаТдённыС Π½Π° ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠ΅Π²ΡƒΡŽ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΡƒ (А); рСнтгСновская фотоэлСктронная спСктроскопия (B); рамановская спСктроскопия ΠΈ ΡΠΎΠΎΡ‚Π½ΠΎΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π° кристаллов (L a) ΠΊ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡˆΠ΅Π½ΠΈΡŽ ΠΏΠΈΠΊΠΎΠ² l 2D /l G Π² рамановском спСктрС для MW-rGO, GO ΠΈ Π₯ΠžΠ“Π€ (CVD).


Π­Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Π½Ρ‹Π΅ ΠΈ элСктрокаталитичСскиС свойства MW-rGO, ΠΏΠΎ ΡΡ€Π°Π²Π½Π΅Π½ΠΈΡŽ с rGO. Π˜Π»Π»ΡŽΡΡ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ: Rutgers University

ВСхпроцСсс получСния MW-rGO состоит ΠΈΠ· Π½Π΅ΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΈΡ… этапов.

  1. ОкислСниС Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠΌΠΎΠ΄ΠΈΡ„ΠΈΡ†ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹ΠΌ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ Π₯аммСрса ΠΈ растворСниС Π΅Π³ΠΎ Π΄ΠΎ однослойных Ρ…Π»ΠΎΠΏΡŒΠ΅Π² оксида Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π² Π²ΠΎΠ΄Π΅.
  2. ΠžΡ‚ΠΆΠΈΠ³ GO, Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π» стал Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ восприимчив ΠΊ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ»Π½ΠΎΠ²ΠΎΠΌΡƒ ΠΎΠ±Π»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΡŽ.
  3. ΠžΠ±Π»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ Ρ…Π»ΠΎΠΏΡŒΠ΅Π² GO Π² ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎΠΉ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ»Π½ΠΎΠ²ΠΎΠΉ ΠΏΠ΅Ρ‡ΠΈ ΠΌΠΎΡ‰Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ 1000 Π’Ρ‚ Π½Π° 1-2 сСкунды. Π’ΠΎ врСмя этой ΠΏΡ€ΠΎΡ†Π΅Π΄ΡƒΡ€Ρ‹ GO быстро нагрСваСтся Π΄ΠΎ высокой Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹, происходит дСсорбция кислородных Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏ ΠΈ вСликолСпная структуризация ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΉ Ρ€Π΅ΡˆΡ‘Ρ‚ΠΊΠΈ.
Π‘ΡŠΡ‘ΠΌΠΊΠ° ΠΏΡ€ΠΎΡΠ²Π΅Ρ‡ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠΌ элСктронным микроскопом ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Ρ‹Π²Π°Π΅Ρ‚, Ρ‡Ρ‚ΠΎ послС ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠΈ Π‘Π’Π§-ΠΈΠ·Π»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚Π΅Π»Π΅ΠΌ образуСтся высокоупорядочСнная структура, Π² ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΉ кислородныС Ρ„ΡƒΠ½ΠΊΡ†ΠΈΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΡ‹ практичСски ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΡƒΠ½ΠΈΡ‡Ρ‚ΠΎΠΆΠ΅Π½Ρ‹.


На изобраТСниях с ΠΏΡ€ΠΎΡΠ²Π΅Ρ‡ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‰Π΅Π³ΠΎ элСктронного микроскопа ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Π½Π° структура листов Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° со шкалой 1 Π½ΠΌ. Π‘Π»Π΅Π²Π° - однослойный rGO, Π½Π° ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΌ ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΠ², Π² Ρ‚ΠΎΠΌ числС Ρ„ΡƒΠ½ΠΊΡ†ΠΈΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΡ‹ кислорода (синяя стрСлка) ΠΈ Π΄Ρ‹Ρ€Ρ‹ Π² ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΌ слоС (красная стрСлка). По Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Ρƒ ΠΈ справа - ΠΎΡ‚Π»ΠΈΡ‡Π½ΠΎ структурированный двуслойный ΠΈ трёхслойный MW-rGO. Π€ΠΎΡ‚ΠΎ: Rutgers University

Π’Π΅Π»ΠΈΠΊΠΎΠ»Π΅ΠΏΠ½Ρ‹Π΅ структурныС свойства MW-rGO ΠΏΡ€ΠΈ использовании Π² ΠΏΠΎΠ»Π΅Π²Ρ‹Ρ… транзисторах ΠΏΠΎΠ·Π²ΠΎΠ»ΡΡŽΡ‚ ΡƒΠ²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΌΠ°ΠΊΡΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ ΠΏΠΎΠ΄Π²ΠΈΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ элСктронов ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€Π½ΠΎ Π΄ΠΎ 1500 см 2 /В·с, Ρ‡Ρ‚ΠΎ сравнимо с Π²Ρ‹Π΄Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠΌΠΈΡΡ характСристиками соврСмСнных транзисторов с высокой ΠΏΠΎΠ΄Π²ΠΈΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ элСктронов.

ΠšΡ€ΠΎΠΌΠ΅ элСктроники, MW-rGO пригодится Π² производствС ΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ²: ΠΎΠ½ ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Π» ΠΈΡΠΊΠ»ΡŽΡ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ малСнькоС Π·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ коэффициСнта ВафСля ΠΏΡ€ΠΈ использовании Π² качСствС ΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€Π° ΠΏΡ€ΠΈ Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΈ выдСлСния кислорода: ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€Π½ΠΎ 38 ΠΌΠ’ Π½Π° Π΄Π΅ΠΊΠ°Π΄Ρƒ. ΠšΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€ Π½Π° MW-rGO Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ сохранил ΡΡ‚Π°Π±ΠΈΠ»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π² Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΈ выдСлСния Π²ΠΎΠ΄ΠΎΡ€ΠΎΠ΄Π°, которая ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΠΎΠ»ΠΆΠ°Π»Π°ΡΡŒ Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ 100 часов.

Всё это ΠΏΡ€Π΅Π΄ΠΏΠΎΠ»Π°Π³Π°Π΅Ρ‚ ΠΎΡ‚Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹ΠΉ ΠΏΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π» для использования восстановлСнного Π² ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ»Π½ΠΎΠ²ΠΎΠΌ ΠΈΠ·Π»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π² ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½ΠΎΡΡ‚ΠΈ.

Научная ΡΡ‚Π°Ρ‚ΡŒΡ "High-quality graphene via microwave reduction of solution-exfoliated graphene oxide" ΠΎΠΏΡƒΠ±Π»ΠΈΠΊΠΎΠ²Π°Π½Π° 1 сСнтября 2016 Π³ΠΎΠ΄Π° Π² ΠΆΡƒΡ€Π½Π°Π»Π΅ Science (doi: 10.1126/science.aah3398).

Π“Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ всё Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ притягатСлСн для исслСдоватСлСй. Если Π² 2007 Π³ΠΎΠ΄Ρƒ Π²Ρ‹ΡˆΠ»ΠΎ 797 статСй, посвящСнных Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Ρƒ, Ρ‚ΠΎ Π·Π° ΠΏΠ΅Ρ€Π²Ρ‹Π΅ 8 мСсяцСв 2008 Π³ΠΎΠ΄Π° - ΡƒΠΆΠ΅ 801 публикация. ΠšΠ°ΠΊΠΎΠ²Ρ‹ ΠΆΠ΅ Π½Π°ΠΈΠ±ΠΎΠ»Π΅Π΅ Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΠΌΡ‹Π΅ исслСдования ΠΈ открытия послСднСго Π²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½ΠΈ Π² области Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Ρ… структур ΠΈ Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΉ?

На сСгодняшний дСнь Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ (рис. 1) - самый Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΉ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π», извСстный чСловСчСству, Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ всСго Π² ΠΎΠ΄ΠΈΠ½ Π°Ρ‚ΠΎΠΌ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π°. Он вошСл Π² ΡƒΡ‡Π΅Π±Π½ΠΈΠΊΠΈ ΠΏΠΎ Ρ„ΠΈΠ·ΠΈΠΊΠ΅ ΠΈ Π² Π½Π°ΡˆΡƒ Ρ€Π΅Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π² 2004 Π³ΠΎΠ΄Ρƒ, ΠΊΠΎΠ³Π΄Π° исслСдоватСли ΠΈΠ· ΠœΠ°Π½Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π΅Ρ€ΡΠΊΠΎΠ³ΠΎ унивСрситСта АндрС Π“Π΅ΠΉΠΌ ΠΈ ΠšΠΎΠ½ΡΡ‚Π°Π½Ρ‚ΠΈΠ½ НовосСлов сумСли Π΅Π³ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡ ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΡƒΡŽ Π»Π΅Π½Ρ‚Ρƒ-скотч для ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΠΎΠ²Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ отдСлСния слоСв ΠΎΡ‚ ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ кристалличСского Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, Π·Π½Π°ΠΊΠΎΠΌΠΎΠ³ΠΎ Π½Π°ΠΌ Π² Π²ΠΈΠ΄Π΅ ΠΊΠ°Ρ€Π°Π½Π΄Π°ΡˆΠ½ΠΎΠ³ΠΎ стСрТня (см. ΠŸΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅). Π—Π°ΠΌΠ΅Ρ‡Π°Ρ‚Π΅Π»Π΅Π½ Ρ‚ΠΎΡ‚ Ρ„Π°ΠΊΡ‚, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹ΠΉ лист, ΠΏΠΎΠΌΠ΅Ρ‰Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ Π½Π° ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΡƒ ΠΈΠ· оксидированного крСмния, ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Ρ€Π°ΡΡΠΌΠΎΡ‚Ρ€Π΅Ρ‚ΡŒ Π² Ρ…ΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΈΠΉ оптичСский микроскоп. И это ΠΏΡ€ΠΈ Π΅Π³ΠΎ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Π΅ всСго Π² нСсколько ангстрСм (1Γ… = 10 –10 ΠΌ)!

ΠŸΠΎΠΏΡƒΠ»ΡΡ€Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° срСди исслСдоватСлСй ΠΈ ΠΈΠ½ΠΆΠ΅Π½Π΅Ρ€ΠΎΠ² растСт дСнь ΠΎΡ‚ΠΎ дня, ΠΏΠΎΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΡƒ ΠΎΠ½ ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°Π΅Ρ‚ Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½Ρ‹ΠΌΠΈ оптичСскими , элСктричСскими, мСханичСскими ΠΈ тСрмичСскими свойствами. МногиС экспСрты ΠΏΡ€Π΅Π΄ΡΠΊΠ°Π·Ρ‹Π²Π°ΡŽΡ‚ Π² Π½Π΅Π΄Π°Π»Π΅ΠΊΠΎΠΌ Π±ΡƒΠ΄ΡƒΡ‰Π΅ΠΌ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΡƒΡŽ Π·Π°ΠΌΠ΅Π½Ρƒ ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠ΅Π²Ρ‹Ρ… транзисторов Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ экономичными ΠΈ Π±Ρ‹ΡΡ‚Ρ€ΠΎΠ΄Π΅ΠΉΡΡ‚Π²ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠΌΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹ΠΌΠΈ (рис. 2).

НСсмотря Π½Π° Ρ‚ΠΎ Ρ‡Ρ‚ΠΎ мСханичСскоС отслоСниС с ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ скотча позволяСт ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ слои высокого качСства для Ρ„ΡƒΠ½Π΄Π°ΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… исслСдований, Π° ΡΠΏΠΈΡ‚Π°ΠΊΡΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ способ выращивания Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ ΠΎΠ±Π΅ΡΠΏΠ΅Ρ‡ΠΈΡ‚ΡŒ Π½Π°ΠΈΠΊΡ€Π°Ρ‚Ρ‡Π°ΠΉΡˆΠΈΠΉ ΠΏΡƒΡ‚ΡŒ ΠΊ элСктронным микросхСмам, Ρ…ΠΈΠΌΠΈΠΊΠΈ ΠΏΡ‹Ρ‚Π°ΡŽΡ‚ΡΡ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΈΠ· раствора. Π’ Π΄ΠΎΠ±Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΊ Π½ΠΈΠ·ΠΊΠΎΠΉ стоимости ΠΈ высокой ΠΏΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΠΈ, этот ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ ΠΎΡ‚ΠΊΡ€Ρ‹Π²Π°Π΅Ρ‚ Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠ³Ρƒ ΠΊΠΎ ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΈΠΌ ΡˆΠΈΡ€ΠΎΠΊΠΎ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅ΠΌΡ‹ΠΌ химичСским Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΈΠΊΠ°ΠΌ, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΏΠΎΠ·Π²ΠΎΠ»ΠΈΠ»ΠΈ Π±Ρ‹ Π²Π½Π΅Π΄Ρ€ΡΡ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ слои Π² Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Π΅ наноструктуры Π»ΠΈΠ±ΠΎ ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π³Ρ€ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΠΈΡ… с Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹ΠΌΠΈ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°ΠΌΠΈ для создания Π½Π°Π½ΠΎΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ·ΠΈΡ‚ΠΎΠ². Однако ΠΏΡ€ΠΈ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° химичСскими ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π°ΠΌΠΈ Π΅ΡΡ‚ΡŒ Π½Π΅ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ трудности, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ Π΄ΠΎΠ»ΠΆΠ½Ρ‹ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ ΠΏΡ€Π΅ΠΎΠ΄ΠΎΠ»Π΅Π½Ρ‹: Π²ΠΎ-ΠΏΠ΅Ρ€Π²Ρ‹Ρ…, Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎ Π΄ΠΎΡΡ‚ΠΈΠ³Π½ΡƒΡ‚ΡŒ ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΎΠ³ΠΎ расслоСния Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, ΠΏΠΎΠΌΠ΅Ρ‰Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ Π² раствор; Π²ΠΎ-Π²Ρ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ…, ΡΠ΄Π΅Π»Π°Ρ‚ΡŒ Ρ‚Π°ΠΊ, Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ отслоСнный Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ Π² растворС сохранял Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡƒ листа, Π° Π½Π΅ сворачивался ΠΈ Π½Π΅ слипался.

На днях Π² прСстиТном ΠΆΡƒΡ€Π½Π°Π»Π΅ Nature Π±Ρ‹Π»ΠΈ ΠΎΠΏΡƒΠ±Π»ΠΈΠΊΠΎΠ²Π°Π½Ρ‹ Π΄Π²Π΅ ΡΡ‚Π°Ρ‚ΡŒΠΈ нСзависимо Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π°ΡŽΡ‰ΠΈΡ… Π½Π°ΡƒΡ‡Π½Ρ‹Ρ… Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏ, Π² ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… Π°Π²Ρ‚ΠΎΡ€Π°ΠΌ ΡƒΠ΄Π°Π»ΠΎΡΡŒ ΠΏΡ€Π΅ΠΎΠ΄ΠΎΠ»Π΅Ρ‚ΡŒ Π²Ρ‹ΡˆΠ΅Π½Π°Π·Π²Π°Π½Π½Ρ‹Π΅ трудности ΠΈ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ листы Ρ…ΠΎΡ€ΠΎΡˆΠ΅Π³ΠΎ качСства, ΠΏΠΎΠ΄Π²Π΅ΡˆΠ΅Π½Π½Ρ‹Π΅ Π² растворС.

ΠŸΠ΅Ρ€Π²Π°Ρ Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΠ° ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… - ΠΈΠ· Бтэнфордского унивСрситСта (ΠšΠ°Π»ΠΈΡ„ΠΎΡ€Π½ΠΈΡ, БША) ΠΈ (ΠšΠΈΡ‚Π°ΠΉ) - внСдряла ΡΠ΅Ρ€Π½ΡƒΡŽ ΠΈ Π°Π·ΠΎΡ‚Π½ΡƒΡŽ кислоты ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ слоями Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° (процСсс интСркаляции; см. Graphite intercalation compound), ΠΈ Π·Π°Ρ‚Π΅ΠΌ быстро Π½Π°Π³Ρ€Π΅Π²Π°Π»Π° ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Π΅Ρ† Π΄ΠΎ 1000Β°C (рис. 3a). Π’Π·Ρ€Ρ‹Π²Π½ΠΎΠ΅ испарСниС ΠΌΠΎΠ»Π΅ΠΊΡƒΠ»-интСркалянтов ΠΏΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠ΅ (Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ Π² нСсколько Π½Π°Π½ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ²) Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ Β«Ρ…Π»ΠΎΠΏΡŒΡΒ», ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ содСрТат мноТСство Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Ρ… слоСв. ПослС этого Π² пространство ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹ΠΌΠΈ слоями химичСски внСдряли Π΄Π²Π° вСщСства - ΠΎΠ»Π΅ΡƒΠΌ ΠΈ Π³ΠΈΠ΄Ρ€ΠΎΠΎΠΊΠΈΡΡŒ тСтрабутиламмония (ГВБА) (рис. 3b). ΠžΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°Π·Π²ΡƒΠΊΠΎΠΌ раствор содСрТал ΠΊΠ°ΠΊ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ листы (рис. 3c). ПослС этого ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ цСнтрифугирования ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΠ»ΠΈ ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° (рис. 3d).

Π’ Ρ‚ΠΎΠΆΠ΅ врСмя вторая Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΠ° ΡƒΡ‡Π΅Π½Ρ‹Ρ… - ΠΈΠ· Π”ΡƒΠ±Π»ΠΈΠ½Π° , ΠžΠΊΡΡ„ΠΎΡ€Π΄Π° ΠΈ ΠšΠ΅ΠΌΠ±Ρ€ΠΈΠ΄ΠΆΠ° - ΠΏΡ€Π΅Π΄Π»ΠΎΠΆΠΈΠ»Π° Π΄Ρ€ΡƒΠ³ΡƒΡŽ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊΡƒ для получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΈΠ· многослойного Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° - Π±Π΅Π· использования интСркалянтов. Π“Π»Π°Π²Π½ΠΎΠ΅, ΠΏΠΎ словам Π°Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ² ΡΡ‚Π°Ρ‚ΡŒΠΈ, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Β«ΠΏΡ€Π°Π²ΠΈΠ»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅Β» органичСскиС растворитСли, Ρ‚Π°ΠΊΠΈΠ΅ ΠΊΠ°ΠΊ N-ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΠ»-ΠΏΠΈΡ€Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΠ΄ΠΎΠ½ . Для получСния высококачСствСнного Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π²Π°ΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΠΎΠ΄ΠΎΠ±Ρ€Π°Ρ‚ΡŒ Ρ‚Π°ΠΊΠΈΠ΅ растворитСли, Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ энСргия повСрхностного взаимодСйствия ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ растворитСлСм ΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠΌ Π±Ρ‹Π»Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΉ ΠΆΠ΅, ΠΊΠ°ΠΊ для систСмы графСн–графСн. На рис. 4 ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Π½Ρ‹ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Ρ‹ пошагового получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°.

УспСх ΠΎΠ±ΠΎΠΈΡ… экспСримСнтов основан Π½Π° Π½Π°Ρ…ΠΎΠΆΠ΄Π΅Π½ΠΈΠΈ ΠΏΡ€Π°Π²ΠΈΠ»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… интСркалянтов ΠΈ/ΠΈΠ»ΠΈ растворитСлСй. ΠšΠΎΠ½Π΅Ρ‡Π½ΠΎ, ΡΡƒΡ‰Π΅ΡΡ‚Π²ΡƒΡŽΡ‚ ΠΈ Π΄Ρ€ΡƒΠ³ΠΈΠ΅ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊΠΈ для получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, Ρ‚Π°ΠΊΠΈΠ΅ ΠΊΠ°ΠΊ ΠΏΡ€Π΅ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° Π² оксид Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°. Π’ Π½ΠΈΡ… ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ ΠΏΠΎΠ΄Ρ…ΠΎΠ΄, Π½Π°Π·Ρ‹Π²Π°Π΅ΠΌΡ‹ΠΉ «оксидированиС–расслоСниС–восстановлСниС», Π² Ρ…ΠΎΠ΄Π΅ ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎ базисныС плоскости Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Π²Π°ΡŽΡ‚ΡΡ ΠΊΠΎΠ²Π°Π»Π΅Π½Ρ‚Π½ΠΎ-связанными Ρ„ΡƒΠ½ΠΊΡ†ΠΈΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΠ°ΠΌΠΈ кислорода. Π­Ρ‚ΠΎΡ‚ окислСнный Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ становится Π³ΠΈΠ΄Ρ€ΠΎΡ„ΠΈΠ»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌ (ΠΈΠ»ΠΈ попросту Π²Π»Π°Π³ΠΎΠ»ΡŽΠ±ΠΈΠ²Ρ‹ΠΌ) ΠΈ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π»Π΅Π³ΠΊΠΎ Ρ€Π°ΡΡΠ»Π°ΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ Π½Π° ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ листы ΠΏΠΎΠ΄ дСйствиС ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°Π·Π²ΡƒΠΊΠ°, Π½Π°Ρ…ΠΎΠ΄ΡΡΡŒ Π² водяном растворС. ΠŸΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°Π΅Ρ‚ Π·Π°ΠΌΠ΅Ρ‡Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ мСханичСскими ΠΈ оптичСскими характСристиками, Π½ΠΎ Π΅Π³ΠΎ элСктричСская ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ Π½Π° нСсколько порядков Π½ΠΈΠΆΠ΅, Ρ‡Π΅ΠΌ ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈ ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΠΈ «скотч-ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π°Β» (см. ΠŸΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅). БоотвСтствСнно, Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΉ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ вряд Π»ΠΈ смоТСт Π½Π°ΠΉΡ‚ΠΈ ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π² элСктроникС.

Как оказалось, Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ Π±Ρ‹Π» ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ Π² Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ Π΄Π²ΡƒΡ… Π²Ρ‹ΡˆΠ΅ΠΎΠ±ΠΎΠ·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊ, Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ высокого качСства (содСрТит мСньшСС количСство Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΠ² Π² Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Ρ‚ΠΊΠ΅) ΠΈ, ΠΊΠ°ΠΊ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚, ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°Π΅Ρ‚ Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ высокой ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ.

ΠžΡ‡Π΅Π½ΡŒ кстати ΠΏΡ€ΠΈΡˆΠ»ΠΎΡΡŒ Π΅Ρ‰Π΅ ΠΎΠ΄Π½ΠΎ достиТСниС исслСдоватСлСй ΠΈΠ· ΠšΠ°Π»ΠΈΡ„ΠΎΡ€Π½ΠΈΠΈ , ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ Π½Π΅Π΄Π°Π²Π½ΠΎ сообщили ΠΎ Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΠΎΡ€Π°Π·Ρ€Π΅ΡˆΠ°ΡŽΡ‰Π΅ΠΉ (Ρ€Π°Π·Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Π΄ΠΎ 1Γ…) элСктронной микроскопии с Π½ΠΈΠ·ΠΊΠΎΠΉ энСргиСй элСктронов (80 ΠΊΠ’) для прямого наблюдСния Π·Π° ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ°ΠΌΠΈ ΠΈ Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚Π°ΠΌΠΈ Π² кристалличСской Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Ρ‚ΠΊΠ΅ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°. Π£Ρ‡Π΅Π½Ρ‹ΠΌ Π²ΠΏΠ΅Ρ€Π²Ρ‹Π΅ Π² ΠΌΠΈΡ€Π΅ ΡƒΠ΄Π°Π»ΠΎΡΡŒ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ изобраТСния Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½ΠΎΠΉ структуры Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° высокой чСткости (рис. 5), Π½Π° ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ своими Π³Π»Π°Π·Π°ΠΌΠΈ ΡƒΠ²ΠΈΠ΄Π΅Ρ‚ΡŒ ΡΠ΅Ρ‚ΠΎΡ‡Π½ΡƒΡŽ структуру Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°.

Π•Ρ‰Π΅ дальшС ΡƒΡˆΠ»ΠΈ исслСдоватСли ΠΈΠ· ΠšΠΎΡ€Π½Π΅Π»Π»ΠΎΠ²ΡΠΊΠΎΠ³ΠΎ унивСрситСта . Из листа Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΈΠΌ ΡƒΠ΄Π°Π»ΠΎΡΡŒ ΡΠΎΠ·Π΄Π°Ρ‚ΡŒ ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρƒ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ всСго Π² ΠΎΠ΄ΠΈΠ½ Π°Ρ‚ΠΎΠΌ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π°, ΠΈ Π½Π°Π΄ΡƒΡ‚ΡŒ Π΅Π΅, ΠΊΠ°ΠΊ Π²ΠΎΠ·Π΄ΡƒΡˆΠ½Ρ‹ΠΉ ΡˆΠ°Ρ€ΠΈΠΊ. Вакая ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Π° оказалась достаточно ΠΏΡ€ΠΎΡ‡Π½ΠΎΠΉ для Ρ‚ΠΎΠ³ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ Π²Ρ‹Π΄Π΅Ρ€ΠΆΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Π΄Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π³Π°Π·Π° Π² нСсколько атмосфСр. ЭкспСримСнт состоял Π² ΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰Π΅ΠΌ. На ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΡƒ ΠΈΠ· оксидированного крСмния с ΠΏΡ€Π΅Π΄Π²Π°Ρ€ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ Π²Ρ‹Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ ячСйками Π±Ρ‹Π»ΠΈ ΠΏΠΎΠΌΠ΅Ρ‰Π΅Π½Ρ‹ листы Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ вслСдствиС Π²Π°Π½-Π΄Π΅Ρ€-Π²Π°Π°Π»ΡŒΡΠΎΠ²Ρ‹Ρ… сил ΠΏΠ»ΠΎΡ‚Π½ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈΠΊΡ€Π΅ΠΏΠΈΠ»ΠΈΡΡŒ ΠΊ повСрхности крСмния (рис. 6a). Π’Π°ΠΊΠΈΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠΌ Π±Ρ‹Π»ΠΈ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½Ρ‹ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠΊΠ°ΠΌΠ΅Ρ€Ρ‹, Π² ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Π±Ρ‹Π»ΠΎ ΡƒΠ΄Π΅Ρ€ΠΆΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Π³Π°Π·. ПослС этого ΡƒΡ‡Π΅Π½Ρ‹Π΅ создавали Ρ€Π°Π·Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π΄Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠΉ Π²Π½ΡƒΡ‚Ρ€ΠΈ ΠΈ снаруТи ΠΊΠ°ΠΌΠ΅Ρ€Ρ‹ (рис. 6b). Π˜ΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½ΠΎ-силовой микроскоп , ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€ΡΡŽΡ‰ΠΈΠΉ Π²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ½Ρƒ ΠΎΡ‚ΠΊΠ»ΠΎΠ½ΡΡŽΡ‰Π΅ΠΉ силы, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΡƒΡŽ ΠΊΠ°Π½Ρ‚ΠΈΠ»Π΅Π²Π΅Ρ€ с ΠΈΠ³Π»ΠΎΠΉ чувствуСт ΠΏΡ€ΠΈ сканировании ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρ‹ Π½Π° высотС всСго Π½Π΅ΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΈΡ… Π½Π°Π½ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ² ΠΎΡ‚ Π΅Π΅ повСрхности, исслСдоватСлям ΡƒΠ΄Π°Π»ΠΎΡΡŒ Π½Π°Π±Π»ΡŽΠ΄Π°Ρ‚ΡŒ ΡΡ‚Π΅ΠΏΠ΅Π½ΡŒ вогнутости-выгнутости ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρ‹ (рис. 6c–e) ΠΏΡ€ΠΈ ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠΈ давлСния Π΄ΠΎ Π½Π΅ΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΈΡ… атмосфСр.

ПослС этого ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Π° Π±Ρ‹Π»Π° использована Π² Ρ€ΠΎΠ»ΠΈ ΠΌΠΈΠ½ΠΈΠ°Ρ‚ΡŽΡ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ Π±Π°Ρ€Π°Π±Π°Π½Π° для измСрСния частоты Π΅Π΅ Π²ΠΈΠ±Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΉ ΠΏΡ€ΠΈ ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠΈ давлСния. Π‘Ρ‹Π»ΠΎ установлСно, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π³Π΅Π»ΠΈΠΉ остаСтся Π² ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠΊΠ°ΠΌΠ΅Ρ€Π΅ Π΄Π°ΠΆΠ΅ ΠΏΡ€ΠΈ высоком Π΄Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ. Однако ΠΏΠΎΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΡƒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ Π² экспСримСнтС, Π±Ρ‹Π» Π½Π΅ ΠΈΠ΄Π΅Π°Π»Π΅Π½ (ΠΈΠΌΠ΅Π» Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚Ρ‹ кристалличСской структуры), Ρ‚ΠΎ Π³Π°Π· ΠΏΠΎΠ½Π΅ΠΌΠ½ΠΎΠ³Ρƒ просачивался Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρƒ. Π’ Ρ‚Π΅Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ всСго экспСримСнта, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ продолТался Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ 70 часов, наблюдалось Π½Π΅ΡƒΠΊΠ»ΠΎΠ½Π½ΠΎΠ΅ ΡƒΠΌΠ΅Π½ΡŒΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ натяТСния ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρ‹ (рис. 6e).

Авторы исслСдования ΡƒΠΊΠ°Π·Ρ‹Π²Π°ΡŽΡ‚, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΏΠΎΠ΄ΠΎΠ±Π½Ρ‹Π΅ ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρ‹ ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΈΠΌΠ΅Ρ‚ΡŒ самыС Ρ€Π°Π·Π½ΠΎΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Π½Ρ‹Π΅ примСнСния - Π½Π°ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ для изучСния биологичСских ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ², ΠΏΠΎΠΌΠ΅Ρ‰Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… Π² раствор. Для этого Π±ΡƒΠ΄Π΅Ρ‚ достаточно Π½Π°ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΡŒ Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΉ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π» Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠΌ ΠΈ ΠΈΠ·ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ Π΅Π³ΠΎ сквозь ΠΏΡ€ΠΎΠ·Ρ€Π°Ρ‡Π½ΡƒΡŽ ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρƒ микроскопом, Π½Π΅ опасаясь Π·Π° ΡƒΡ‚Π΅Ρ‡ΠΊΡƒ ΠΈΠ»ΠΈ испарСниС раствора, ΠΏΠΎΠ΄Π΄Π΅Ρ€ΠΆΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‰Π΅Π³ΠΎ ΠΆΠΈΠ·Π½Π΅Π΄Π΅ΡΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΎΡ€Π³Π°Π½ΠΈΠ·ΠΌΠ°. Π’Π°ΠΊΠΆΠ΅ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΡΠ΄Π΅Π»Π°Ρ‚ΡŒ ΠΏΡ€ΠΎΠΊΠΎΠ»Ρ‹ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π° Π² ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Π΅ ΠΈ Π·Π°Ρ‚Π΅ΠΌ Π½Π°Π±Π»ΡŽΠ΄Π°Ρ‚ΡŒ, изучая Π΄ΠΈΡ„Ρ„ΡƒΠ·ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹Π΅ процСссы, ΠΊΠ°ΠΊ ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΡ‹ ΠΈΠ»ΠΈ ΠΈΠΎΠ½Ρ‹ проходят сквозь отвСрстиС. Но самоС Π³Π»Π°Π²Π½ΠΎΠ΅ - исслСдованиС ΡƒΡ‡Π΅Π½Ρ‹Ρ… ΠΈΠ· ΠšΠΎΡ€Π½Π΅Π»Π»ΠΎΠ²ΡΠΊΠΎΠ³ΠΎ унивСрситСта Π΅Ρ‰Π΅ Π½Π° шаг ΠΏΡ€ΠΈΠ±Π»ΠΈΠ·ΠΈΠ»ΠΎ Π½Π°ΡƒΠΊΡƒ ΠΊ созданию ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½Ρ‹Ρ… сСнсоров.

Π‘Ρ‚Ρ€Π΅ΠΌΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ рост количСства исслСдований Π½Π° Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π΅ ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Ρ‹Π²Π°Π΅Ρ‚, Ρ‡Ρ‚ΠΎ это Π΄Π΅ΠΉΡΡ‚Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΎΡ‡Π΅Π½ΡŒ пСрспСктивный ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π» для ΡˆΠΈΡ€ΠΎΠΊΠΎΠ³ΠΎ ΠΊΡ€ΡƒΠ³Π° ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠΉ, Π½ΠΎ Π΄ΠΎ воплощСния ΠΈΡ… Π² Тизнь Π΅Ρ‰Π΅ слСдуСт ΠΏΠΎΡΡ‚Ρ€ΠΎΠΈΡ‚ΡŒ Π½Π΅ΠΌΠ°Π»ΠΎ Ρ‚Π΅ΠΎΡ€ΠΈΠΉ ΠΈ провСсти Π½Π΅ ΠΎΠ΄ΠΈΠ½ дСсяток экспСримСнтов.

Impermeable Atomic Membranes from Graphene Sheets (доступСн ΠΏΠΎΠ»Π½Ρ‹ΠΉ тСкст) // NanoLetters . V. 8. No. 8. P. 2458–2462 (2008).

АлСксандр Π‘Π°ΠΌΠ°Ρ€Π΄Π°ΠΊ


Π’Π»Π°Π΄Π΅Π»ΡŒΡ†Ρ‹ ΠΏΠ°Ρ‚Π΅Π½Ρ‚Π° RU 2572325:

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ использовано для получСния ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² ΠΈ элСмСнтов наноэлСктроники, Π½Π°Π½ΠΎΡ„ΠΎΡ‚ΠΎΠ½ΠΈΠΊΠΈ, Π³Π°Π·ΠΎΠ²Ρ‹Ρ… сСнсоров ΠΈ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… систСм с ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°ΠΊΠΎΡ€ΠΎΡ‚ΠΊΠΈΠΌΠΈ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ°ΠΌΠΈ излучСния. Π“Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°ΡŽΡ‚ ΠΏΡƒΡ‚Π΅ΠΌ расслоСния Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° Π² ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΎΠΌ Π°Π·ΠΎΡ‚Π΅. ΠŸΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠΉ мишСни ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±Π°Ρ‚Ρ‹Π²Π°ΡŽΡ‚ ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠΎΠΌ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ излучСния с Π΄Π»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ° порядка 10 -13 с, ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Ρ‰Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠΌΡΡ ΠΏΠΎ повСрхности мишСни со ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ, ΠΎΠ±Π΅ΡΠΏΠ΅Ρ‡ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‰Π΅ΠΉ 75% ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠ΅ пятСн воздСйствия Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠΎΠ². Бпособ позволяСт ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ структуры Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… Ρ„ΠΎΡ€ΠΌ ΠΈ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΎΠ² с обСспСчСниСм высокой ΠΏΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΠΈ ΠΈ экологичСской чистоты производствСнного процСсса. 2 ΠΈΠ».

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ относится ΠΊ области производства ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… наноструктур ΠΈ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ использовано для получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° для примСнСния Π² качСствС основы для ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² ΠΈ элСмСнтов наноэлСктроники, Π½Π°Π½ΠΎΡ„ΠΎΡ‚ΠΎΠ½ΠΈΠΊΠΈ, Π³Π°Π·ΠΎΠ²Ρ‹Ρ… сСнсоров ΠΈ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… систСм с ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°ΠΊΠΎΡ€ΠΎΡ‚ΠΊΠΈΠΌΠΈ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ°ΠΌΠΈ излучСния.

ВсС извСстныС Π² настоящСС врСмя ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»ΠΈΡ‚ΡŒ Π½Π° Π΄Π²Π΅ Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΡ‹: синтСза ΠΈ отдСлСния. К ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠΉ Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΠ΅ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ отнСсти Ρ‚Π°ΠΊΠΈΠ΅ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹, ΠΊΠ°ΠΊ синтСз Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ химичСского осаТдСния ΠΏΠ°Ρ€ΠΎΠ², ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π² элСктричСской Π΄ΡƒΠ³Π΅, тСрмичСскоС Ρ€Π°Π·Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΊΠ°Ρ€Π±ΠΈΠ΄Π° крСмния, ΡΠΏΠΈΡ‚Π°ΠΊΡΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ΅ Π²Ρ‹Ρ€Π°Ρ‰ΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ Π½Π° мСталличСской повСрхности ΠΈ Ρ‚.ΠΏ. Они ΠΏΠΎΠ·Π²ΠΎΠ»ΡΡŽΡ‚ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ высокого качСства, Π½ΠΎ ΡΠ²Π»ΡΡŽΡ‚ΡΡ достаточно Π΄Π»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ ΠΈ дорогостоящими, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΊΠ°ΠΊ ΠΏΡ€Π΅Π΄ΠΏΠΎΠ»Π°Π³Π°ΡŽΡ‚ использованиС слоТного спСцифичСского оборудования ΠΈ Π²Ρ‹ΠΏΠΎΠ»Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ строгих тСхнологичСских условий. Π’ Ρ‚ΠΎ ΠΆΠ΅ врСмя для получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π² свободном Π²ΠΈΠ΄Π΅ Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ ΠΏΡ€ΠΎΡ†Π΅Π΄ΡƒΡ€Ρ‹ отдСлСния ΠΈ очистки. Вторая Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏΠ° ΠΎΠ±ΡŠΠ΅Π΄ΠΈΠ½ΡΠ΅Ρ‚ Ρ‚Π°ΠΊΠΈΠ΅ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ ΠΊΠ°ΠΊ микромСханичСскоС расслоСниС Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΎΡ„Π°Π·Π½ΠΎΠ΅ расслоСниС Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, окислСниС Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° ΠΈ Ρ‚.ΠΏ. Они Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ просты Π² Ρ€Π΅Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΠΈ, Π½ΠΎ ΠΈΠΌΠ΅ΡŽΡ‚ сущСствСнныС нСдостатки. Π­Ρ‚ΠΎ, ΠΏΡ€Π΅ΠΆΠ΄Π΅ всСго, малая доля Π²Ρ‹Ρ…ΠΎΠ΄Π° Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΠ΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ качСства ΠΈ Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ Π΅Π³ΠΎ очистки ΠΎΡ‚ ΡΠΎΠΏΡƒΡ‚ΡΡ‚Π²ΡƒΡŽΡ‰Π΅Π³ΠΎ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π° ΠΈ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅ΠΌΡ‹Ρ… тСхнологичСских срСд (Π•Π»Π΅Ρ†ΠΊΠΈΠΉ А.Π’., Π˜ΡΠΊΠ°Π½Π΄Π°Ρ€ΠΎΠ²Π° И.М., КниТник А.А. ΠΈ Π΄Ρ€. Π“Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½: ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ получСния ΠΈ тСплофизичСскиС свойства. УспСхи физичСских Π½Π°ΡƒΠΊ, 2011, Ρ‚. 181, β„–3, с. 233-250).

Π˜Π·Π²Π΅ΡΡ‚Π΅Π½ способ формирования Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΏΡƒΡ‚Π΅ΠΌ расслоСния Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° (см. ΠΏΠ°Ρ‚Π΅Π½Ρ‚ US 20130102084 А1, МПК C01B 31/04, H01L 51/00, H01L 51/42, ΠΎΠΏΡƒΠ±Π».: 25.04.2013), ΠΎΠ±ΡŠΠ΅Π΄ΠΈΠ½ΡΡŽΡ‰ΠΈΠΉ ряд Π²Π°Ρ€ΠΈΠ°Π½Ρ‚ΠΎΠ², ΠΏΡ€Π΅Π΄ΠΏΠΎΠ»Π°Π³Π°ΡŽΡ‰ΠΈΡ… Π²Π½Π΅Π΄Ρ€Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π² пространство ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ слоями Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†Π° растворов солСй ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΠΎΠ² (Li, Al, Fe, Cu) Π² органичСских растворитСлях (ΠΏΡ€ΠΎΠΏΠΈΠ»Π΅Π½ΠΊΠ°Ρ€Π±ΠΎΠ½Π°Ρ‚, Ν,Ν-Π΄ΠΈΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΠ»Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠ°ΠΌΠΈΠ΄, Π΄ΠΈΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΠ»ΡΡƒΠ»ΡŒΡ„ΠΎΠΊΡΠΈΠ΄). Π˜ΠΎΠ½Ρ‹ ΠΈ органичСскиС ΠΌΠΎΠ»Π΅ΠΊΡƒΠ»Ρ‹ растворитСля Ρ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€ΡΡŽΡ‚ пространство ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ слоями, Ρ‡Ρ‚ΠΎ обСспСчиваСт Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΈΡ… раздСлСния ΠΏΡ€ΠΈ воздСйствии внСшнСй Π²Ρ‹Π½ΡƒΠΆΠ΄Π°ΡŽΡ‰Π΅ΠΉ силы, которая ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ ΠΈΠΌΠ΅Ρ‚ΡŒ ΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΡ…ΠΈΠΌΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ, Ρ‚Π΅Ρ€ΠΌΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ, ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ»Π½ΠΎΠ²ΡƒΡŽ, ΡΠΎΠ»ΡŒΠ²ΠΎΡ‚Π΅Ρ€ΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ, Π°ΠΊΡƒΡΡ‚ΠΎΡ…ΠΈΠΌΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ ΠΈΠ»ΠΈ Π°ΠΊΡƒΡΡ‚ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ ΠΏΡ€ΠΈΡ€ΠΎΠ΄Ρƒ.

НСдостатком способа являСтся низкая ΠΏΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ вслСдствиС большой Π΄Π»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΠΈ этапов Π΅Π³ΠΎ Ρ€Π΅Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΠΈ (Ρ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ° внСшнСй Π²Ρ‹Π½ΡƒΠΆΠ΄Π°ΡŽΡ‰Π΅ΠΉ силой, очистка ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°). ΠšΡ€ΠΎΠΌΠ΅ Ρ‚ΠΎΠ³ΠΎ, полная очистка Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° ΠΎΡ‚ органичСских растворитСлСй Π½Π΅ достиТима.

Π˜Π·Π²Π΅ΡΡ‚Π΅Π½ Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ способ производства Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° с использованиСм элСктромагнитного излучСния (см. ΠΏΠ°Ρ‚Π΅Π½Ρ‚ US 20130056346 A1, МПК C01B 31/02, B01J 19/12, B82Y 40/00, ΠΎΠΏΡƒΠ±Π».: 07.03.2013). Π”Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ способ ΠΏΡ€Π΅Π΄ΠΏΠΎΠ»Π°Π³Π°Π΅Ρ‚ ΠΏΡ€Π΅ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ оксида Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° Π² Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΏΡ€ΠΈ Π΅Π³ΠΎ Π½Π°Π³Ρ€Π΅Π²Π΅ ΠΏΠΎΠ΄ дСйствиСм ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ элСктромагнитного излучСния (Π² Ρ‚ΠΎΠΌ числС Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ).

НСдостаток этого способа Π·Π°ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Π΅Ρ‚ΡΡ Π² Ρ‚ΠΎΠΌ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ исходным ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠΌ для получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° являСтся ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΏΠΎΠ΄Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²Π»Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ микродиспСрсный ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎΠΊ оксида Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎ связано со слоТными Ρ…ΠΈΠΌΠΈΠΊΠΎ-мСханичСскими процСссами ΠΈ использованиСм экологичСски опасных Ρ€Π΅Π°Π³Π΅Π½Ρ‚ΠΎΠ².

Π˜Π·Π²Π΅ΡΡ‚Π΅Π½ способ производства ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… наноструктур Π² ΠΊΡ€ΠΈΠΎΠ³Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… Тидкостях (см. Mortazavi S.Ξ–., P. Parvin, Reyhani A. Fabrication of graphene based on Q-switched Nd:YAG laser ablation of graphite target in liquid nitrogen. Laser Physics Review Letters, 2012, Vol. 9, β„–7, P. 547-552 (ΠΏΡ€ΠΎΡ‚ΠΎΡ‚ΠΈΠΏ)), ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΌ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°ΡŽΡ‚ ΠΏΡƒΡ‚Π΅ΠΌ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠΉ абляции Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠΉ мишСни, ΠΏΠΎΠΌΠ΅Ρ‰Π΅Π½Π½ΠΎΠΉ Π² ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΈΠΉ Π°Π·ΠΎΡ‚, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ½Ρ‹ΠΉ наносСкундный Nd:YAG Π»Π°Π·Π΅Ρ€ с ΠΌΠΎΠ΄ΡƒΠ»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΠΎΠΉ Π΄ΠΎΠ±Ρ€ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ.

К нСдостаткам этого способа ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ отнСсти Ρ‚ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ для получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° трСбуСтся Π΄Π»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ΅ врСмя (20 ΠΌΠΈΠ½ΡƒΡ‚) ΠΈ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ° повСрхности мишСни производится Π½Π΅ΠΏΠΎΠ΄Π²ΠΈΠΆΠ½Ρ‹ΠΌ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹ΠΌ ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠΎΠΌ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΎΠ³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ‡ΠΈΠ²Π°Π΅Ρ‚ ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Π°Π΄ΡŒ синтСза Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Π°ΠΌΠΈ пятна фокусировки излучСния. Π‘ΠΎΠ²ΠΎΠΊΡƒΠΏΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π΄Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… нСдостатков ΡƒΠΌΠ΅Π½ΡŒΡˆΠ°Π΅Ρ‚ ΠΏΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ рассматриваСмого способа.

ВСхничСским Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚ΠΎΠΌ ΠΏΡ€Π΅Π΄Π»Π°Π³Π°Π΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ изобрСтСния являСтся ΡƒΠ²Π΅Π»ΠΈΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΏΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΠΈ процСсса получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π·Π° ΠΎΠ΄ΠΈΠ½ Ρ†ΠΈΠΊΠ» ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠΈ Π±Π΅Π· использования химичСских вСщСств, Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΡ… Π΄ΠΎΠΏΠΎΠ»Π½ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ очистки ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°.

ВСхничСский Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚ достигаСтся Ρ‚Π΅ΠΌ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π² способС получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° процСсс производится Π² ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΎΠΌ Π°Π·ΠΎΡ‚Π΅ с использованиСм ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ излучСния, ΠΏΡ€ΠΈΡ‡Π΅ΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΡƒ повСрхности Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° производят ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠΎΠΌ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ излучСния с Π΄Π»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ° порядка 10 -13 с, ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Ρ‰Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠΌΡΡ ΠΏΠΎ повСрхности мишСни со ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ, ΠΎΠ±Π΅ΡΠΏΠ΅Ρ‡ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‰Π΅ΠΉ 75% ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠ΅ пятСн воздСйствия Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠΎΠ².

На Ρ„ΠΈΠ³. 1 ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π΄Π΅Π½ΠΎ ΠΈΠ·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Ρ… структур, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… с ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ изобрСтСния ΠΏΡ€ΠΈ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠΌ расслоСнии высокоориСнтированного пиролитичСского Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° (Π’ΠžΠŸΠ“). На Ρ„ΠΈΠ³. 2 ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π΄Π΅Π½ΠΎ ΠΈΠ·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Ρ… структур, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… с ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ изобрСтСния ΠΏΡ€ΠΈ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠΌ расслоСнии стСклоуглСрода. Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΡ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Ρ‹ ΠΏΡ€ΠΈ ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΠΈ растрового элСктронного микроскопа Quanta 200 3D.

Бпособ Ρ€Π΅Π°Π»ΠΈΠ·ΠΎΠ²Π°Π½ с ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ ΠΈΡ‚Ρ‚Π΅Ρ€Π±ΠΈΠ΅Π²ΠΎΠ³ΠΎ фСмтосСкундного Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π° ВЕВА-10. Π”Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ Π»Π°Π·Π΅Ρ€ обСспСчиваСт ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΡƒ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² ΠΈΠ·Π»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ с Π΄Π»ΠΈΠ½ΠΎΠΉ Π²ΠΎΠ»Π½Ρ‹ 1029 Π½ΠΌ, Π΄Π»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ° 300 фс ΠΈ энСргиСй Π² ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ΅ 150 ΠΌΠΊΠ”ΠΆ. Частота повторСния Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠΎΠ² 10 ΠΊΠ“Ρ†. ΠžΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ° повСрхности Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° производится Π² срСдС ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΎΠ³ΠΎ Π°Π·ΠΎΡ‚Π°, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Π²Π°Π΅Ρ‚ Π΅Π΅ слоСм Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ ΠΎΠΊΠΎΠ»ΠΎ 1 см. Π”ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ пятна Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ излучСния Π½Π° повСрхности Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° 100 ΠΌΠΊΠΌ.

ΠŸΡ€ΠΈ Π°ΠΏΡ€ΠΎΠ±Π°Ρ†ΠΈΠΈ способа Π² качСствС исходного ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π° (ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π° мишСнСй) для получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° использовались ΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠ΅ ΠΌΠΎΠ΄ΠΈΡ„ΠΈΠΊΠ°Ρ†ΠΈΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°: высокоориСнтированный пиролитичСский Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ Π’ΠžΠŸΠ“-1,7-10Γ—10Γ—1-1 ΠΈ стСклоуглСрод Π‘Π£-2000.

ΠžΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ° повСрхности исходного ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π° производится Π² Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠ΅ сканирования. Π‘ΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ двиТСния Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠ° ΠΏΠΎ повСрхности мишСни 0,25 ΠΌ/с. ΠŸΡ€ΠΈ Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΉ скорости сканирования обСспСчиваСтся 75% ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠ΅ пятСн воздСйствия Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠΎΠ², Ρ‡Ρ‚ΠΎ соотвСтствуСт ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ΅ ΠΊΠ°ΠΆΠ΄ΠΎΠ³ΠΎ элСмСнта повСрхности Π² ΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Π°Ρ… Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ‚Ρ€Π΅ΠΊΠ° Ρ‡Π΅Ρ‚Ρ‹Ρ€ΡŒΠΌΡ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ°ΠΌΠΈ излучСния (Π·Π° ΠΈΡΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ Π½Π°Ρ‡Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ ΠΈ ΠΊΠΎΠ½Π΅Ρ‡Π½ΠΎΠΉ стадий Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ‚Ρ€Π΅ΠΊΠ°). ΠŸΡ€ΠΈ мСньшСй стСпСни воздСйствия Π½Π΅ происходит эксфолиации Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π°, Π° ΠΏΡ€ΠΈ большСй начинаСтся сильноС Ρ€Π°Π·Ρ€ΡƒΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ повСрхности мишСни ΠΈ, ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½Π½ΠΎ, отслоСнного ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°. ΠšΠΎΠ»ΠΈΡ‡Π΅ΡΡ‚Π²ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Π΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π° растСт ΠΏΡ€ΠΎΠΏΠΎΡ€Ρ†ΠΈΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Π°Π΄ΠΈ повСрхности Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠΉ мишСни, ΠΏΠΎΠ΄Π²Π΅Ρ€Π³Π½ΡƒΡ‚ΠΎΠΉ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠΉ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ΅. Π£Π²Π΅Π»ΠΈΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Π°Π΄ΠΈ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠΈ обСспСчиваСтся ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΎΠΏΡ€ΠΎΡ…ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΌ ΠΎΠ±Π»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ повСрхности Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° с расстояниСм ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ линиями Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… Ρ‚Ρ€Π΅ΠΊΠΎΠ² 100 ΠΌΠΊΠΌ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ позволяСт ΠΈΠ·Π±Π΅ΠΆΠ°Ρ‚ΡŒ ΠΈΡ… пСрСкрытия ΠΈ Ρ€Π°Π·Ρ€ΡƒΡˆΠ΅Π½ΠΈΡ отслоСнных Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Ρ… структур.

Π’ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ Ρ€Π΅Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΠΈ способа с повСрхности Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠΉ мишСни отслаиваСтся Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ с Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ ΠΎΠΊΠΎΠ»ΠΎ 10 Π½ΠΌ. Π’ случаС использования Π² качСствС исходного ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π° Π’ΠžΠŸΠ“ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ получаСтся Π² Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠ΅ Π»Π΅Π½Ρ‚ ΡˆΠΈΡ€ΠΈΠ½ΠΎΠΉ Π΄ΠΎ 50 ΠΌΠΊΠΌ ΠΈ Π΄Π»ΠΈΠ½ΠΎΠΉ Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ 150 ΠΌΠΊΠΌ ΠΈ пластин ΠΏΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²ΠΎΠ»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡ‹ с Ρ…Π°Ρ€Π°ΠΊΡ‚Π΅Ρ€Π½Ρ‹ΠΌ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΎΠΌ Π΄ΠΎ 150 ΠΌΠΊΠΌ. Π’ случаС использования Π² качСствС исходного ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π° стСклоуглСрода Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ получаСтся Π² Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠ΅ ΠΊΠΎΠΌΠΊΠΎΠ² с сильно Ρ€Π°Π·Π²ΠΈΡ‚ΠΎΠΉ свободной ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΠΈ Ρ…Π°Ρ€Π°ΠΊΡ‚Π΅Ρ€Π½Ρ‹ΠΌ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΎΠΌ ΠΎΠΊΠΎΠ»ΠΎ 1 ΠΌΠΊΠΌ.

ПослС Π·Π°Π²Π΅Ρ€ΡˆΠ΅Π½ΠΈΡ процСсса получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹ΠΉ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π» выдСрТиваСтся Π² СстСствСнных условиях Π΄ΠΎ ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΎΠ³ΠΎ испарСния ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΎΠ³ΠΎ Π°Π·ΠΎΡ‚Π°, послС Ρ‡Π΅Π³ΠΎ ΠΎΠ½ становится доступным для ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰Π΅Π³ΠΎ исслСдования ΠΈ использования.

Π’Π°ΠΊΠΈΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠΌ, ΠΏΡ€Π΅Π΄Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ способ ΠΏΠΎΠ·Π²ΠΎΠ»ΠΈΡ‚ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ структуры Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… Ρ„ΠΎΡ€ΠΌ ΠΈ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΎΠ² с обСспСчСниСм высокой ΠΏΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΠΈ ΠΈ экологичСской чистоты производствСнного процСсса.

Бпособ получСния Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½Π° Π² ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΎΠΌ Π°Π·ΠΎΡ‚Π΅ с использованиСм ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ излучСния, ΠΎΡ‚Π»ΠΈΡ‡Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠΉΡΡ Ρ‚Π΅ΠΌ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΡƒ повСрхности Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° производят ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠΎΠΌ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ излучСния с Π΄Π»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ° порядка 10 -13 с, ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Ρ‰Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠΌΡΡ ΠΏΠΎ повСрхности мишСни со ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ, ΠΎΠ±Π΅ΡΠΏΠ΅Ρ‡ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‰Π΅ΠΉ 75% ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠ΅ пятСн воздСйствия Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠΎΠ².

ΠŸΠΎΡ…ΠΎΠΆΠΈΠ΅ ΠΏΠ°Ρ‚Π΅Π½Ρ‚Ρ‹:

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ использовано ΠΏΡ€ΠΈ ΠΈΠ·Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ элСктронных ΠΈ оптоэлСктронных устройств, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ солнСчных Π±Π°Ρ‚Π°Ρ€Π΅ΠΉ. Π˜ΡΡ…ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΉ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ Π΄ΠΈΡΠΏΠ΅Ρ€Π³ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‚ ΠΈΠ³Π»ΠΎΡ„Ρ€Π΅Π·Π΅Ρ€ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ΠΌ с ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ ΠΏΡ€ΠΎΠ΄ΡƒΠΊΡ‚Π° диспСргирования, содСрТащСго Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ элСмСнты.

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ относится ΠΊ области создания ΠΈ производства ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² с высокими Ρ„ΠΈΠ·ΠΈΠΊΠΎ-мСханичСскими характСристиками, Π² частности ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄-ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ·ΠΈΡ†ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² Π½Π° основС Ρ‚ΠΊΠ°Π½Ρ‹Ρ… Π°Ρ€ΠΌΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΡ… Π½Π°ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΈΡ‚Π΅Π»Π΅ΠΉ ΠΈΠ· ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΠΎΠΌΠΎΠ΄ΡƒΠ»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Π²ΠΎΠ»ΠΎΠΊΠ½Π° ΠΈ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΉ ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹, сформированной ΠΈΠ· ΠΏΠ΅ΠΊΠΎΠ² Π² процСссС ΠΊΠ°Ρ€Π±ΠΎΠ½ΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΠΈ ΠΈ ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΡ… высокотСмпСратурных ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΎΠΊ.

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ использовано ΠΏΡ€ΠΈ ΠΈΠ·Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ конструкционных ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ². Бпособ ΠΏΠ°ΠΊΠ΅Ρ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²ΠΊΠΈ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… ΠΎΠ±ΠΎΠΆΠΆΠ΅Π½Π½Ρ‹Ρ… ΠΊΡ€ΡƒΠΏΠ½ΠΎΠ³Π°Π±Π°Ρ€ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… Π·Π°Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠΊ мСлкозСрнистого Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° изостатичСского прСссования ΠΏΡ€ΠΈ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°Ρ†ΠΈΠΈ Π²ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Π΅Ρ‚ ΠΈΡ… располоТСниС Π²Π΅Ρ€Ρ‚ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΈ Π³ΠΎΡ€ΠΈΠ·ΠΎΠ½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΏΠΎΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΊ ΠΊΠ΅Ρ€Π½Π° Π² столбиках, ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… Π΄Ρ€ΡƒΠ³ ΠΎΡ‚ Π΄Ρ€ΡƒΠ³Π° слоями ΠΊΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠ²ΠΎΠΉ пСрСсыпки Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ ΠΏΡ€ΠΈΠ±Π»ΠΈΠ·ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ 0,2 Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Π° Π·Π°Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²ΠΊΠΈ.

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ использовано для изготовлСния Ρ‚Π΅Ρ€ΠΌΠΎΡ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° (Π’Π Π“) ΠΈ ΠΎΠ³Π½Π΅Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ². Π˜ΡΡ…ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΉ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠΎΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Π½Ρ‹ΠΉ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±Π°Ρ‚Ρ‹Π²Π°ΡŽΡ‚ ΠΎΠΊΠΈΡΠ»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌ раствором, содСрТащим ΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠ΅ ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ½Π΅Π½Ρ‚Ρ‹ Π² ΡΠΎΠΎΡ‚Π½ΠΎΡˆΠ΅Π½ΠΈΠΈ, Π³/Π³ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π°: сСрная кислота 2,0-5,0; азотнокислый Π°ΠΌΠΌΠΎΠ½ΠΈΠΉ 0,04-0,15; ΠΊΠ°Ρ€Π±Π°ΠΌΠΈΠ΄ 0,04-0,15.

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ использовано Π² ΠΌΠ΅Π΄ΠΈΡ†ΠΈΠ½Π΅, Π±ΠΈΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ ΠΈ сСльском хозяйствС Π² качСствС химичСских ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π΅ΠΉΠ½Π΅Ρ€ΠΎΠ² для хранСния ΠΈ транспортировки вСщСств. Π“Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ Ρ„Ρ‚ΠΎΡ€ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‚ фторокислитСлями - Ρ‚Ρ€ΠΈΡ„Ρ‚ΠΎΡ€ΠΈΠ΄ΠΎΠΌ Ρ…Π»ΠΎΡ€Π° ΠΈΠ»ΠΈ Π±Ρ€ΠΎΠΌΠ° Π² растворитСлС, ΠΈΠ½Π΅Ρ€Ρ‚Π½ΠΎΠΌ ΠΊ ΡƒΠΊΠ°Π·Π°Π½Π½Ρ‹ΠΌ фторокислитСлям, Π² качСствС ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡŽΡ‚ Ρ‚Π΅Ρ‚Ρ€Π°Ρ…Π»ΠΎΡ€ΠΈΠ΄ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π° ΠΈΠ»ΠΈ Ρ„Ρ€Π΅ΠΎΠ½.

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ относится ΠΊ области получСния высокоплотной ΠΊΠ΅Ρ€Π°ΠΌΠΈΠΊΠΈ Π½Π° основС Ρ‚Π΅Ρ‚Ρ€Π°Π³ΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ диоксида циркония. Π Π°Π·Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π°Π½Π½Ρ‹Π΅ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Ρ‹ ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Π½Ρ‹ для получСния износостойких ΠΈΠ·Π΄Π΅Π»ΠΈΠΉ, Ρ€Π΅ΠΆΡƒΡ‰Π΅Π³ΠΎ инструмСнта, кСрамичСских подшипников, мСдицинских Π½Π΅Ρ€Π΅Π·ΠΎΡ€Π±ΠΈΡ€ΡƒΠ΅ΠΌΡ‹Ρ… ΠΈΠΌΠΏΠ»Π°Π½Ρ‚Π°Ρ‚ΠΎΠ².

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ относится ΠΊ области органичСской Ρ…ΠΈΠΌΠΈΠΈ ΠΈ высокомолСкулярных ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ·ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² Π½Π° основС органичСских соСдинСний, ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°ΡŽΡ‰ΠΈΡ… высокой Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€ΠΎΠΉ разлоТСния, ΠΈ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ использовано Π² качСствС ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠΉ, устойчивых ΠΊ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π½Ρ‹ΠΌ воздСйствиям.

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ относится ΠΊ аэрогСлям, ΠΊΠ°Π»ΡŒΡ†ΠΈΠ½ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹ΠΌ издСлиям ΠΈ издСлиям с кристалличСской структурой, содСрТащим ZrO2, ΠΈ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π½Π°ΠΉΡ‚ΠΈ ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π² стоматологии. Бпособ получСния аэрогСля Π²ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Π΅Ρ‚ стадии, Π½Π° ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… ΠΎΠ±Π΅ΡΠΏΠ΅Ρ‡ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‚ ΠΏΠ΅Ρ€Π²Ρ‹ΠΉ золь диоксида циркония, содСрТащий частицы кристалличСского оксида ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»Π°, Ρ…Π°Ρ€Π°ΠΊΡ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ·ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠ΅ΡΡ срСдним Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΎΠΌ ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… частиц Π½Π΅ Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ Ρ‡Π΅ΠΌ 50 Π½Π°Π½ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ², Π΄ΠΎΠ±Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‚ Ρ€Π°Π΄ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎ Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΎΠ½Π½ΠΎ-способный ΠΌΠΎΠ΄ΠΈΡ„ΠΈΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΡ€ повСрхности ΠΊ золю диоксида циркония с ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ Ρ€Π°Π΄ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΠΈΠΌΠ΅Ρ€ΠΈΠ·ΡƒΠ΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ повСрхностно-ΠΌΠΎΠ΄ΠΈΡ„ΠΈΡ†ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ золя диоксида циркония, Π΄ΠΎΠ±Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‚ ΠΈΠ½ΠΈΡ†ΠΈΠ°Ρ‚ΠΎΡ€ Ρ€Π°Π΄ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ ΠΏΠΎΠ»ΠΈΠΌΠ΅Ρ€ΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΠΈ, Π½Π°Π³Ρ€Π΅Π²Π°ΡŽΡ‚ с ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ΠΌ гСля, ΡΠΊΡΡ‚Ρ€Π°Π³ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‚ спирт, Ссли присутствуСт, ΠΈΠ· гСля посрСдством свСрхкритичСской экстракции с ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ аэрогСля.

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ относится ΠΊ области Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΉ ΠΈ Π½Π°Π½ΠΎΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ². НаноразмСрный ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎΠΊ крСмния ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°ΡŽΡ‚ Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ монокристалличСского крСмния Π² ячСйкС элСктрохимичСского травлСния с контрэлСктродом U-ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Π½ΠΎΠΉ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡ‹ ΠΈΠ· Π½Π΅Ρ€ΠΆΠ°Π²Π΅ΡŽΡ‰Π΅ΠΉ стали с ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠΌ мСханичСским ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ пористого слоя ΠΎΡ‚ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ, Π΅Π³ΠΎ ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Π»ΡŒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ Π² ΠΈΠ·ΠΎΠΏΡ€ΠΎΠΏΠΈΠ»ΠΎΠ²ΠΎΠΌ спиртС Π² ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°Π·Π²ΡƒΠΊΠΎΠ²ΠΎΠΉ Π²Π°Π½Π½Π΅ ΠΈ ΡΡƒΡˆΠΊΠΎΠΉ Π² СстСствСнных условиях, ΠΏΡ€ΠΈ этом Π² качСствС элСктролита ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡŽΡ‚ раствор Π΄ΠΈΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΠ»Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠ°ΠΌΠΈΠ΄Π° с Π΄ΠΎΠ±Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ ΠΏΠ»Π°Π²ΠΈΠΊΠΎΠ²ΠΎΠΉ кислоты ΠΈ 20% ΠΏΠΎ ΠΎΠ±ΡŠΠ΅ΠΌΡƒ пСрСкиси Π²ΠΎΠ΄ΠΎΡ€ΠΎΠ΄Π° (30%).

Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π΅Ρ‚Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ использовано для получСния ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² ΠΈ элСмСнтов наноэлСктроники, Π½Π°Π½ΠΎΡ„ΠΎΡ‚ΠΎΠ½ΠΈΠΊΠΈ, Π³Π°Π·ΠΎΠ²Ρ‹Ρ… сСнсоров ΠΈ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… систСм с ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°ΠΊΠΎΡ€ΠΎΡ‚ΠΊΠΈΠΌΠΈ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ°ΠΌΠΈ излучСния. Π“Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°ΡŽΡ‚ ΠΏΡƒΡ‚Π΅ΠΌ расслоСния Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚Π° Π² ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΎΠΌ Π°Π·ΠΎΡ‚Π΅. ΠŸΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠΉ мишСни ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±Π°Ρ‚Ρ‹Π²Π°ΡŽΡ‚ ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠΎΠΌ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ излучСния с Π΄Π»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ° порядка 10-13 с, ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Ρ‰Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠΌΡΡ ΠΏΠΎ повСрхности мишСни со ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ, ΠΎΠ±Π΅ΡΠΏΠ΅Ρ‡ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‰Π΅ΠΉ 75 ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠ΅ пятСн воздСйствия Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠΎΠ². Бпособ позволяСт ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ Π³Ρ€Π°Ρ„Π΅Π½ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ структуры Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… Ρ„ΠΎΡ€ΠΌ ΠΈ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΎΠ² с обСспСчСниСм высокой ΠΏΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΠΈ ΠΈ экологичСской чистоты производствСнного процСсса. 2 ΠΈΠ».